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江蘇進口光刻膠國產(chǎn)廠家

來源: 發(fā)布時間:2025-07-10

吉田半導體的自研產(chǎn)品已深度融入國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)鏈:

  • 芯片制造:YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國際、長江存儲,支持國產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn)。
  • 顯示面板:YK-200 LCD 光刻膠市占率達 15%,成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴。
  • 新能源領(lǐng)域:無鹵無鉛焊片通過 UL 認證,批量應(yīng)用于寧德時代儲能系統(tǒng),年供貨量超 500 噸。
  • 研發(fā)投入:年研發(fā)費用占比超 15%,承擔國家 02 專項課題,獲 “國家技術(shù)發(fā)明二等獎”。
  • 產(chǎn)能規(guī)模:光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,納米壓印光刻膠占全球市場份額 15%。
  • 質(zhì)量體系:通過 ISO9001、IATF 16949 等認證,生產(chǎn)過程執(zhí)行 8S 管理,批次穩(wěn)定性達 99.5%。
吉田半導體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā),加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破,目標在 2027 年前實現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn)。同時,深化國產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同,構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈,為中國半導體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻 “吉田力量”。
從突破國際壟斷到行業(yè)標準,吉田半導體以自研自產(chǎn)為引擎,走出了一條中國半導體材料企業(yè)的崛起之路。未來,公司將以更具競爭力的產(chǎn)品與技術(shù),助力中國半導體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺階。
化學放大光刻膠(CAR)采用光酸催化劑,可顯著提高深紫外(DUV)曝光效率。江蘇進口光刻膠國產(chǎn)廠家

江蘇進口光刻膠國產(chǎn)廠家,光刻膠

主要原材料“卡脖子”:從樹脂到光酸的依賴

 樹脂與光酸的技術(shù)斷層
光刻膠成本中50%-60%來自樹脂,而國內(nèi)KrF/ArF光刻膠樹脂的單體國產(chǎn)化率不足10%。例如,日本信越化學的KrF樹脂純度達99.999%,金屬雜質(zhì)含量低于1ppb,而國內(nèi)企業(yè)的同類產(chǎn)品仍存在批次穩(wěn)定性問題。光酸作為光刻膠的“心臟”,其合成需要超純試劑和復雜純化工藝,國內(nèi)企業(yè)在純度控制(如金屬離子含量)上與日本關(guān)東化學等國際巨頭存在代差。

 原材料供應(yīng)鏈的脆弱性
光刻膠所需的酚醛樹脂、環(huán)烯烴共聚物(COC)等關(guān)鍵原料幾乎全部依賴進口。日本信越化學因地震導致KrF光刻膠產(chǎn)能受限后,國內(nèi)部分晶圓廠采購量從100kg/期驟降至10-20kg/期。更嚴峻的是,光敏劑原料焦性沒食子酸雖由中國提取,但需出口至日本加工成光刻膠光敏劑后再高價返銷,形成“原料出口-技術(shù)溢價-高價進口”的惡性循環(huán)。
常州阻焊油墨光刻膠國產(chǎn)廠家光刻膠的儲存條件嚴苛,需在低溫、避光環(huán)境下保存以維持穩(wěn)定性。

江蘇進口光刻膠國產(chǎn)廠家,光刻膠

 差異化競爭策略
高級市場(如ArF浸沒式光刻膠),吉田半導體采取跟隨式創(chuàng)新,通過優(yōu)化現(xiàn)有配方(如提高酸擴散抑制效率)逐步縮小與國際巨頭的差距;在中低端市場(如PCB光刻膠),則憑借性價比優(yōu)勢(價格較進口產(chǎn)品低20%-30%)快速搶占份額,2023年P(guān)CB光刻膠市占率突破10%。

 前沿技術(shù)儲備
公司設(shè)立納米材料研發(fā)中心,重點攻關(guān)分子玻璃光刻膠和金屬有機框架(MOF)光刻膠,目標在5年內(nèi)實現(xiàn)EUV光刻膠的實驗室級突破。此外,其納米壓印光刻膠已應(yīng)用于3D NAND存儲芯片的孔陣列加工,分辨率達10nm,為國產(chǎn)存儲廠商提供了替代方案。

技術(shù)優(yōu)勢:23年研發(fā)沉淀與細分領(lǐng)域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系,實現(xiàn)了3μm的分辨率,適用于MEMS傳感器、光學器件等領(lǐng)域。
技術(shù)壁壘:公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗,掌握光刻膠主要原材料(如樹脂、光酸)的合成技術(shù),部分原材料純度達PPT級。

 細分領(lǐng)域技術(shù)先進

? 納米壓印光刻膠:在納米級圖案化領(lǐng)域(如量子點顯示、生物芯片)實現(xiàn)技術(shù)突破,分辨率達3μm,填補國內(nèi)空缺。

? LCD光刻膠:針對顯示面板行業(yè)需求,開發(fā)出高感光度、高對比度的光刻膠,適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù)。

 研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認證,與新材料領(lǐng)域同伴們合作開發(fā)半導體光刻膠,計劃2025年啟動半導體用KrF光刻膠研發(fā)。
在集成電路制造中,光刻膠用于定義晶體管、互連線和接觸孔的圖形。

江蘇進口光刻膠國產(chǎn)廠家,光刻膠

國際標準與客戶認證
公司通過ISO9001、ISO14001等認證,并嚴格執(zhí)行8S現(xiàn)場管理,生產(chǎn)環(huán)境潔凈度達Class 10級。其光刻膠產(chǎn)品已通過京東方、TCL華星的供應(yīng)商認證,在顯示面板領(lǐng)域的市占率約5%,成為本土企業(yè)中少數(shù)能與日本JSR、德國默克競爭的廠商。

全流程可追溯體系
吉田半導體建立了從原材料入庫到成品出庫的全流程追溯系統(tǒng),關(guān)鍵批次數(shù)據(jù)(如樹脂分子量分布、光敏劑純度)實時上傳云端,確保產(chǎn)品一致性和可追溯性。這一體系使其在車規(guī)級芯片等對可靠性要求極高的領(lǐng)域獲得突破,2023年車用光刻膠銷售額同比增長120%。
光刻膠的主要成分包括樹脂、感光劑、溶劑和添加劑,其配比直接影響成像質(zhì)量?;葜葑韬腹饪棠z價格

光刻膠的保質(zhì)期通常較短(6~12個月),需嚴格管控運輸和存儲條件。江蘇進口光刻膠國產(chǎn)廠家

光刻膠(Photoresist)是一種對光敏感的高分子材料,主要用于光刻工藝中,通過光化學反應(yīng)實現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移,是半導體、集成電路(IC)、印刷電路板(PCB)、液晶顯示(LCD)等制造領(lǐng)域的材料之一。

光刻膠特性與組成

? 光敏性:在特定波長(如紫外光、極紫外光EUV等)照射下,會發(fā)生化學結(jié)構(gòu)變化(如交聯(lián)或分解),從而改變在顯影液中的溶解性。

? 主要成分:

? 樹脂(成膜劑):形成基礎(chǔ)膜層,決定光刻膠的機械和化學性能。

? 光敏劑:吸收光能并引發(fā)化學反應(yīng)(如光分解、光交聯(lián))。

? 溶劑:調(diào)節(jié)粘度,便于涂覆成膜。

? 添加劑:改善性能(如感光度、分辨率、對比度等)。
江蘇進口光刻膠國產(chǎn)廠家

標簽: 錫膏 錫片 光刻膠