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在半導(dǎo)體芯片漏電檢測(cè)中，微光顯微鏡為工程師快速鎖定問題位置提供了關(guān)鍵支撐。當(dāng)芯片施加工作偏壓時(shí)，設(shè)備即刻啟動(dòng)檢測(cè)模式 —— 此時(shí)漏電區(qū)域因焦耳熱效應(yīng)會(huì)釋放微弱的紅外輻射，即便輻射功率為 1 微瓦，高靈敏度探測(cè)器也能捕捉到這一極微弱信號(hào)。這種檢測(cè)方式的在于，通過熱成像技術(shù)將漏電點(diǎn)的紅外輻射轉(zhuǎn)化為可視化熱圖，再與電路版圖進(jìn)行疊加分析，可實(shí)現(xiàn)漏電點(diǎn)的微米級(jí)精確定位。相較于傳統(tǒng)檢測(cè)手段，微光設(shè)備無需拆解芯片即可完成非接觸式檢測(cè)，既避免了對(duì)芯片的二次損傷，又能在不干擾正常電路工作的前提下，捕捉到漏電區(qū)域的細(xì)微熱信號(hào)。微光顯微鏡的便攜款桌面級(jí)設(shè)計(jì)，方便在生產(chǎn)線現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè)，及時(shí)發(fā)現(xiàn)產(chǎn)品問題，減少不合格品流...

我司專注于微弱信號(hào)處理技術(shù)的深度開發(fā)與場(chǎng)景化應(yīng)用，憑借深厚的技術(shù)積累，已成功推出多系列失效分析檢測(cè)設(shè)備及智能化解決方案。更懂本土半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的需求，軟件界面貼合工程師操作習(xí)慣，無需額外適配成本即可快速融入產(chǎn)線流程。 性價(jià)比優(yōu)勢(shì)直擊痛點(diǎn)：相比進(jìn)口設(shè)備，采購(gòu)成本降低 30% 以上，且本土化售后團(tuán)隊(duì)實(shí)現(xiàn) 24 小時(shí)響應(yīng)、48 小時(shí)現(xiàn)場(chǎng)維護(hù)，備件供應(yīng)周期縮短至 1 周內(nèi)，徹底擺脫進(jìn)口設(shè)備 “維護(hù)慢、成本高” 的困境。用國(guó)產(chǎn)微光顯微鏡，為芯片質(zhì)量把關(guān)，讓失效分析更高效、更經(jīng)濟(jì)、更可控！ 微光顯微鏡的自動(dòng)瑕疵分類系統(tǒng)，可依據(jù)發(fā)光的強(qiáng)度、形狀等特征進(jìn)行歸類，提高檢測(cè)報(bào)告的生成效率。廠家微光顯微鏡品牌...

OBIRCH與EMMI技術(shù)在集成電路失效分析領(lǐng)域中扮演著互補(bǔ)的角色，其主要差異體現(xiàn)在檢測(cè)原理及應(yīng)用領(lǐng)域。具體而言，EMMI技術(shù)通過光子檢測(cè)手段來精確定位漏電或發(fā)光故障點(diǎn)，而OBIRCH技術(shù)則依賴于激光誘導(dǎo)電阻變化來識(shí)別短路或阻值異常區(qū)域。這兩種技術(shù)通常被整合于同一檢測(cè)系統(tǒng)（即PEM系統(tǒng)）中，其中EMMI技術(shù)在探測(cè)光子發(fā)射類缺陷，如漏電流方面表現(xiàn)出色，而OBIRCH技術(shù)則對(duì)金屬層遮蔽下的短路現(xiàn)象具有更高的敏感度。例如，EMMI技術(shù)能夠有效檢測(cè)未開封芯片中的失效點(diǎn)，而OBIRCH技術(shù)則能有效解決低阻抗（<10 ohm）短路問題。漏電結(jié)和接觸毛刺會(huì)產(chǎn)生亮點(diǎn)，這些亮點(diǎn)產(chǎn)生的光子能被微光顯微鏡捕捉到。微...

此外，可靠的產(chǎn)品質(zhì)量是企業(yè)贏得客戶信任、鞏固市場(chǎng)份額的基礎(chǔ)。通過微光顯微鏡(EMMI)的嚴(yán)格檢測(cè)，企業(yè)能確保交付給客戶的芯片具備穩(wěn)定的性能和較高的可靠性，減少因產(chǎn)品故障導(dǎo)致的客戶投訴和返工或者退貨風(fēng)險(xiǎn)。這種對(duì)質(zhì)量的堅(jiān)守，會(huì)逐漸積累成企業(yè)的品牌口碑，使客戶在選擇供應(yīng)商時(shí)更傾向于信賴具備完善檢測(cè)能力的企業(yè)，從而增強(qiáng)企業(yè)的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。 微光顯微鏡不僅是一種檢測(cè)工具，更是半導(dǎo)體企業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量、加快研發(fā)進(jìn)度、筑牢品牌根基的戰(zhàn)略資產(chǎn)。在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)日趨白熱化的當(dāng)今，配備先進(jìn)的微光顯微鏡設(shè)備，將幫助企業(yè)在技術(shù)創(chuàng)新與市場(chǎng)爭(zhēng)奪中持續(xù)領(lǐng)跑，構(gòu)筑起難以復(fù)制的核心競(jìng)爭(zhēng)力。 靜電放電破壞半導(dǎo)體器件時(shí)，...

需要失效分析檢測(cè)樣品，我們一般會(huì)在提前做好前期的失效背景調(diào)查和電性能驗(yàn)證工作，能夠?yàn)檎麄€(gè)失效分析過程找準(zhǔn)方向、提供依據(jù)，從而更高效、準(zhǔn)確地找出芯片失效的原因。 1.失效背景調(diào)查收集芯片型號(hào)、應(yīng)用場(chǎng)景、失效模式（如短路、漏電、功能異常等）、失效比例、使用環(huán)境（溫度、濕度、電壓）等。確認(rèn)失效是否可復(fù)現(xiàn)，區(qū)分設(shè)計(jì)缺陷、制程問題或應(yīng)用不當(dāng)（如過壓、ESD）。 2.電性能驗(yàn)證使用自動(dòng)測(cè)試設(shè)備（ATE）或探針臺(tái)（ProbeStation）復(fù)現(xiàn)失效，記錄關(guān)鍵參數(shù)（如I-V曲線、漏電流、閾值電壓偏移）。對(duì)比良品與失效芯片的電特性差異，縮小失效區(qū)域（如特定功能模塊）。 微光顯微鏡能檢測(cè)半導(dǎo)體器件...

通過對(duì)這些微光信號(hào)的成像與定位，它能直接“鎖定”電性能缺陷的物理位置，如同在黑夜中捕捉螢火蟲的微光，實(shí)現(xiàn)微米級(jí)的定位。而熱紅外顯微鏡則是“溫度的解讀師”，依托紅外熱成像技術(shù)，它檢測(cè)的是芯片工作時(shí)因能量損耗產(chǎn)生的溫度差異。電流通過芯片時(shí)的電阻損耗、電路短路時(shí)的異常功耗，都會(huì)轉(zhuǎn)化為局部溫度的細(xì)微升高，這些熱量以紅外輻射的形式散發(fā)，被熱紅外顯微鏡捕捉并轉(zhuǎn)化為熱分布圖。通過分析溫度異常區(qū)域，它能間接推斷電路中的故障點(diǎn)，尤其擅長(zhǎng)發(fā)現(xiàn)與能量損耗相關(guān)的問題。升級(jí)后的冷卻系統(tǒng)，能減少設(shè)備自身熱噪聲，讓對(duì)微弱光子的探測(cè)更靈敏，提升檢測(cè)下限。微光顯微鏡與光學(xué)顯微鏡對(duì)比 光束誘導(dǎo)電阻變化（OBIRCH）功能與微光...

在半導(dǎo)體芯片漏電檢測(cè)中，微光顯微鏡為工程師快速鎖定問題位置提供了關(guān)鍵支撐。當(dāng)芯片施加工作偏壓時(shí)，設(shè)備即刻啟動(dòng)檢測(cè)模式 —— 此時(shí)漏電區(qū)域因焦耳熱效應(yīng)會(huì)釋放微弱的紅外輻射，即便輻射功率為 1 微瓦，高靈敏度探測(cè)器也能捕捉到這一極微弱信號(hào)。這種檢測(cè)方式的在于，通過熱成像技術(shù)將漏電點(diǎn)的紅外輻射轉(zhuǎn)化為可視化熱圖，再與電路版圖進(jìn)行疊加分析，可實(shí)現(xiàn)漏電點(diǎn)的微米級(jí)精確定位。相較于傳統(tǒng)檢測(cè)手段，微光設(shè)備無需拆解芯片即可完成非接觸式檢測(cè)，既避免了對(duì)芯片的二次損傷，又能在不干擾正常電路工作的前提下，捕捉到漏電區(qū)域的細(xì)微熱信號(hào)。其內(nèi)置的圖像分析軟件，可測(cè)量亮點(diǎn)尺寸與亮度，為量化評(píng)估缺陷嚴(yán)重程度提供數(shù)據(jù)。國(guó)內(nèi)微光顯微...

相較于傳統(tǒng)微光顯微鏡，InGaAs（銦鎵砷）微光顯微鏡在檢測(cè)先進(jìn)制程組件微小尺寸組件的缺陷方面具有更高的適用性。其原因在于，較小尺寸的組件通常需要較低的操作電壓，這導(dǎo)致熱載子激發(fā)的光波長(zhǎng)增長(zhǎng)。InGaAs微光顯微鏡特別適合于檢測(cè)先進(jìn)制程產(chǎn)品中的亮點(diǎn)和熱點(diǎn)（HotSpot）定位。InGaAs微光顯微鏡與傳統(tǒng)EMMI在應(yīng)用上具有相似性，但I(xiàn)nGaAs微光顯微鏡在以下方面展現(xiàn)出優(yōu)勢(shì)： 1.偵測(cè)到缺陷所需時(shí)間為傳統(tǒng)EMMI的1/5~1/10； 2.能夠偵測(cè)到微弱電流及先進(jìn)制程中的缺陷； 3.能夠偵測(cè)到較輕微的MetalBridge缺陷； 4.針對(duì)芯片背面（Back-Side...

在半導(dǎo)體芯片的精密檢測(cè)領(lǐng)域，微光顯微鏡與熱紅外顯微鏡如同兩把功能各異的 “利劍”，各自憑借獨(dú)特的技術(shù)原理與應(yīng)用優(yōu)勢(shì)，在芯片質(zhì)量管控與失效分析中發(fā)揮著不可替代的作用。二者雖同服務(wù)于芯片檢測(cè)，但在邏輯與適用場(chǎng)景上的差異，使其成為互補(bǔ)而非替代的檢測(cè)組合。從技術(shù)原理來看，兩者的 “探測(cè)語言” 截然不同。 微光顯微鏡是 “光子的捕捉者”，其重心在于高靈敏度的光子傳感器，能夠捕捉芯片內(nèi)部因電性能異常釋放的微弱光信號(hào) —— 這些信號(hào)可能來自 PN 結(jié)漏電時(shí)的電子躍遷，或是柵氧擊穿瞬間的能量釋放，波長(zhǎng)多集中在可見光至近紅外范圍。 微光顯微鏡能檢測(cè)半導(dǎo)體器件微小缺陷和失效點(diǎn)，及時(shí)發(fā)現(xiàn)隱患，保障...

為了讓客戶對(duì)設(shè)備品質(zhì)有更直觀的了解，我們大力支持現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)貨。您可以親臨我們的實(shí)驗(yàn)室，近距離觀察設(shè)備的外觀細(xì)節(jié)，親身操作查驗(yàn)設(shè)備的運(yùn)行性能、精度等關(guān)鍵指標(biāo)。每一臺(tái)設(shè)備都經(jīng)過嚴(yán)格的出廠檢測(cè)，我們敢于將品質(zhì)擺在您眼前，讓您在采購(gòu)前就能對(duì)設(shè)備的實(shí)際狀況了然于胸，消除后顧之憂。一位來自汽車零部件廠商的客戶分享道：“之前采購(gòu)設(shè)備總擔(dān)心實(shí)際性能和描述有差距，在致晟光電現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)貨時(shí)，工作人員耐心陪同我們測(cè)試，設(shè)備的精度和穩(wěn)定性都超出預(yù)期，這下采購(gòu)心里踏實(shí)多了。”針對(duì)氮化鎵等寬禁帶半導(dǎo)體，它能適應(yīng)其寬波長(zhǎng)探測(cè)需求，助力寬禁帶器件的研發(fā)與應(yīng)用。什么是微光顯微鏡工作原理 對(duì)半導(dǎo)體研發(fā)工程師而言，排查的過程層層受阻。...

致晟光電在推動(dòng)產(chǎn)學(xué)研一體化進(jìn)程中，積極開展校企合作。公司依托南京理工大學(xué)光電技術(shù)學(xué)院，專注開發(fā)基于微弱光電信號(hào)分析的產(chǎn)品及應(yīng)用。雙方聯(lián)合攻克技術(shù)難題，不斷優(yōu)化實(shí)時(shí)瞬態(tài)鎖相紅外熱分析系統(tǒng)（RTTLIT），使該系統(tǒng)溫度靈敏度可達(dá)0.0001℃，功率檢測(cè)限低至1uW，部分功能及參數(shù)優(yōu)于進(jìn)口設(shè)備。此外，致晟光電還與其他高校建立合作關(guān)系，搭建起學(xué)業(yè)-就業(yè)貫通式人才孵化平臺(tái)。為學(xué)生提供涵蓋研發(fā)設(shè)計(jì)、生產(chǎn)實(shí)踐、項(xiàng)目管理全鏈條的育人平臺(tái)，輸送了大量實(shí)踐能力強(qiáng)的專業(yè)人才，為企業(yè)持續(xù)創(chuàng)新注入活力。通過建立科研成果產(chǎn)業(yè)孵化綠色通道，高校的前沿科研成果得以快速轉(zhuǎn)化為實(shí)際生產(chǎn)力，實(shí)現(xiàn)了高?？蒲匈Y源與企業(yè)市場(chǎng)轉(zhuǎn)化能力的優(yōu)...

芯片制造工藝復(fù)雜精密，從設(shè)計(jì)到量產(chǎn)的每一個(gè)環(huán)節(jié)都可能潛藏缺陷，而失效分析作為測(cè)試流程的重要一環(huán)，是攔截不合格產(chǎn)品、追溯問題根源的 “守門人”。微光顯微鏡憑借其高靈敏度的光子探測(cè)技術(shù)，能夠捕捉到芯片內(nèi)部因漏電、熱失控等故障產(chǎn)生的微弱發(fā)光信號(hào)，定位微米級(jí)甚至納米級(jí)的缺陷。這種檢測(cè)能力，能幫助企業(yè)快速鎖定問題所在 —— 無論是設(shè)計(jì)環(huán)節(jié)的邏輯漏洞，還是制造過程中的材料雜質(zhì)、工藝偏差，都能被及時(shí)發(fā)現(xiàn)。這意味著企業(yè)可以針對(duì)性地優(yōu)化生產(chǎn)工藝、改進(jìn)設(shè)計(jì)方案，從而提升芯片良率。在當(dāng)前芯片制造成本居高不下的背景下，良率的提升直接轉(zhuǎn)化為生產(chǎn)成本的降低，讓企業(yè)在價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)中占據(jù)更有利的位置。微光顯微鏡在 LED 故障分...

挑選適配自身的微光顯微鏡 EMMI，關(guān)鍵在于明確需求、考量性能與評(píng)估預(yù)算。先梳理應(yīng)用場(chǎng)景，若聚焦半導(dǎo)體失效分析，需關(guān)注能否定位漏電結(jié)、閂鎖效應(yīng)等缺陷產(chǎn)生的光子；性能層面，探測(cè)器是主要考察對(duì)象，像 -80℃制冷型 InGaAs 探測(cè)器，靈敏度高、波長(zhǎng)檢測(cè)范圍廣（900 - 1700nm），能捕捉更微弱信號(hào)；物鏡分辨率也重要，高分辨率物鏡可清晰呈現(xiàn)微小失效點(diǎn)。操作便捷性也不容忽視，軟件界面友好、具備自動(dòng)聚焦等功能，能提升工作效率。預(yù)算方面，進(jìn)口設(shè)備價(jià)格高昂，國(guó)產(chǎn)設(shè)備性價(jià)比優(yōu)勢(shì)凸顯，如部分國(guó)產(chǎn)品牌雖價(jià)格低 30% 以上，但性能與進(jìn)口相當(dāng)，還能提供及時(shí)售后?？傊?，綜合這些因素，多對(duì)比不同品牌、型號(hào)設(shè)備...

隨著器件尺寸的逐漸變小，MOS器件的溝道長(zhǎng)度也逐漸變短。短溝道效應(yīng)也愈發(fā)嚴(yán)重。短溝道效應(yīng)會(huì)使得MOS管的漏結(jié)存在一個(gè)強(qiáng)電場(chǎng)，該電場(chǎng)會(huì)對(duì)載流子進(jìn)行加速，同時(shí)賦予載流子一個(gè)動(dòng)能，該載流子會(huì)造成中性的Si原子被極化，產(chǎn)生同樣帶有能量的電子與空穴對(duì)，這種電子與空穴被稱為熱載流子，反映在能帶圖中就是電位更高的電子和電位更低的空穴。一部分熱載流子會(huì)在生成后立馬復(fù)合，產(chǎn)生波長(zhǎng)更短的熒光，另一部分在電場(chǎng)的作用下分離。電子進(jìn)入柵氧層，影響閾值電壓，空穴進(jìn)入襯底，產(chǎn)生襯底電流。歸因于短溝道效應(yīng)能在MOS管的漏端能看到亮點(diǎn)，同樣在反偏PN結(jié)處也能產(chǎn)生強(qiáng)場(chǎng)，也能觀察到亮點(diǎn)。微光顯微鏡能檢測(cè)半導(dǎo)體器件微小缺陷和失效點(diǎn)，...

得注意的是，兩種技術(shù)均支持對(duì)芯片進(jìn)行正面檢測(cè)（從器件有源區(qū)一側(cè)觀測(cè)）與背面檢測(cè)（透過硅襯底觀測(cè)），可根據(jù)芯片結(jié)構(gòu)、封裝形式靈活選擇檢測(cè)角度，確保在大范圍掃描中快速鎖定微小失效點(diǎn)（如微米級(jí)甚至納米級(jí)缺陷）。在實(shí)際失效分析流程中，PEM系統(tǒng)先通過EMMI與OBIRCH的協(xié)同掃描定位可疑區(qū)域，隨后結(jié)合去層處理（逐層去除芯片的金屬布線層、介質(zhì)層等）、掃描電子顯微鏡（SEM）的高分辨率成像以及光學(xué)顯微鏡的細(xì)節(jié)觀察，進(jìn)一步界定缺陷的物理形態(tài)（如金屬線腐蝕、氧化層剝落、晶體管柵極破損等），終追溯失效機(jī)理（如電遷移、熱載流子注入、工藝污染等）并完成根因分析。這種“定位-驗(yàn)證-溯源”的完整閉環(huán)，使得PEM系統(tǒng)在...

在故障分析領(lǐng)域，微光顯微鏡（EmissionMicroscope,EMMI）是一種極具實(shí)用價(jià)值且效率出眾的分析工具。其功能是探測(cè)集成電路（IC）內(nèi)部釋放的光子。在IC元件中，電子-空穴對(duì)（ElectronHolePairs,EHP）的復(fù)合過程會(huì)伴隨光子（Photon）的釋放。具體可舉例說明：當(dāng)P-N結(jié)施加偏壓時(shí)，N區(qū)的電子會(huì)向P區(qū)擴(kuò)散，同時(shí)P區(qū)的空穴也會(huì)向N區(qū)擴(kuò)散，隨后這些擴(kuò)散的載流子會(huì)與對(duì)應(yīng)區(qū)域的載流子（即擴(kuò)散至P區(qū)的電子與P區(qū)的空穴、擴(kuò)散至N區(qū)的空穴與N區(qū)的電子）發(fā)生EHP復(fù)合，并在此過程中釋放光子。其低噪聲電纜連接設(shè)計(jì)，減少信號(hào)傳輸過程中的損耗，確保微弱光子信號(hào)完整傳遞至探測(cè)器。檢測(cè)用微...

可探測(cè)到亮點(diǎn)的情況 一、由缺陷導(dǎo)致的亮點(diǎn)結(jié)漏電（Junction Leakage）接觸毛刺（Contact Spiking）熱電子效應(yīng)（Hot Electrons）閂鎖效應(yīng)（Latch-Up）氧化層漏電（Gate Oxide Defects / Leakage (F-N Current)）多晶硅晶須（Poly-silicon Filaments）襯底損傷（Substrate Damage）物理損傷（Mechanical Damage）等。 二、器件本身固有的亮點(diǎn)飽和 / 有源狀態(tài)的雙極晶體管（Saturated/Active Bipolar Transistors）飽和狀態(tài)的 ...

隨著器件尺寸的逐漸變小，MOS器件的溝道長(zhǎng)度也逐漸變短。短溝道效應(yīng)也愈發(fā)嚴(yán)重。短溝道效應(yīng)會(huì)使得MOS管的漏結(jié)存在一個(gè)強(qiáng)電場(chǎng)，該電場(chǎng)會(huì)對(duì)載流子進(jìn)行加速，同時(shí)賦予載流子一個(gè)動(dòng)能，該載流子會(huì)造成中性的Si原子被極化，產(chǎn)生同樣帶有能量的電子與空穴對(duì)，這種電子與空穴被稱為熱載流子，反映在能帶圖中就是電位更高的電子和電位更低的空穴。一部分熱載流子會(huì)在生成后立馬復(fù)合，產(chǎn)生波長(zhǎng)更短的熒光，另一部分在電場(chǎng)的作用下分離。電子進(jìn)入柵氧層，影響閾值電壓，空穴進(jìn)入襯底，產(chǎn)生襯底電流。歸因于短溝道效應(yīng)能在MOS管的漏端能看到亮點(diǎn)，同樣在反偏PN結(jié)處也能產(chǎn)生強(qiáng)場(chǎng)，也能觀察到亮點(diǎn)。在航空航天芯片檢測(cè)中，它可定位因輻射導(dǎo)致的芯...

相較于傳統(tǒng)微光顯微鏡，InGaAs（銦鎵砷）微光顯微鏡在檢測(cè)先進(jìn)制程組件微小尺寸組件的缺陷方面具有更高的適用性。其原因在于，較小尺寸的組件通常需要較低的操作電壓，這導(dǎo)致熱載子激發(fā)的光波長(zhǎng)增長(zhǎng)。InGaAs微光顯微鏡特別適合于檢測(cè)先進(jìn)制程產(chǎn)品中的亮點(diǎn)和熱點(diǎn)（HotSpot）定位。InGaAs微光顯微鏡與傳統(tǒng)EMMI在應(yīng)用上具有相似性，但I(xiàn)nGaAs微光顯微鏡在以下方面展現(xiàn)出優(yōu)勢(shì)： 1.偵測(cè)到缺陷所需時(shí)間為傳統(tǒng)EMMI的1/5~1/10； 2.能夠偵測(cè)到微弱電流及先進(jìn)制程中的缺陷； 3.能夠偵測(cè)到較輕微的MetalBridge缺陷； 4.針對(duì)芯片背面（Back-Side...

在半導(dǎo)體芯片漏電檢測(cè)中，微光顯微鏡為工程師快速鎖定問題位置提供了關(guān)鍵支撐。當(dāng)芯片施加工作偏壓時(shí)，設(shè)備即刻啟動(dòng)檢測(cè)模式 —— 此時(shí)漏電區(qū)域因焦耳熱效應(yīng)會(huì)釋放微弱的紅外輻射，即便輻射功率為 1 微瓦，高靈敏度探測(cè)器也能捕捉到這一極微弱信號(hào)。這種檢測(cè)方式的在于，通過熱成像技術(shù)將漏電點(diǎn)的紅外輻射轉(zhuǎn)化為可視化熱圖，再與電路版圖進(jìn)行疊加分析，可實(shí)現(xiàn)漏電點(diǎn)的微米級(jí)精確定位。相較于傳統(tǒng)檢測(cè)手段，微光設(shè)備無需拆解芯片即可完成非接觸式檢測(cè)，既避免了對(duì)芯片的二次損傷，又能在不干擾正常電路工作的前提下，捕捉到漏電區(qū)域的細(xì)微熱信號(hào)。為提升微光顯微鏡探測(cè)力，我司多種光學(xué)物鏡可選，用戶可依樣品工藝與結(jié)構(gòu)選裝，滿足不同微光探...

需要失效分析檢測(cè)樣品，我們一般會(huì)在提前做好前期的失效背景調(diào)查和電性能驗(yàn)證工作，能夠?yàn)檎麄€(gè)失效分析過程找準(zhǔn)方向、提供依據(jù)，從而更高效、準(zhǔn)確地找出芯片失效的原因。 1.失效背景調(diào)查收集芯片型號(hào)、應(yīng)用場(chǎng)景、失效模式（如短路、漏電、功能異常等）、失效比例、使用環(huán)境（溫度、濕度、電壓）等。確認(rèn)失效是否可復(fù)現(xiàn)，區(qū)分設(shè)計(jì)缺陷、制程問題或應(yīng)用不當(dāng)（如過壓、ESD）。 2.電性能驗(yàn)證使用自動(dòng)測(cè)試設(shè)備（ATE）或探針臺(tái)（ProbeStation）復(fù)現(xiàn)失效，記錄關(guān)鍵參數(shù)（如I-V曲線、漏電流、閾值電壓偏移）。對(duì)比良品與失效芯片的電特性差異，縮小失效區(qū)域（如特定功能模塊）。 半導(dǎo)體失效分析中，微光顯微...

在半導(dǎo)體芯片的精密檢測(cè)領(lǐng)域，微光顯微鏡與熱紅外顯微鏡如同兩把功能各異的 “利劍”，各自憑借獨(dú)特的技術(shù)原理與應(yīng)用優(yōu)勢(shì)，在芯片質(zhì)量管控與失效分析中發(fā)揮著不可替代的作用。二者雖同服務(wù)于芯片檢測(cè)，但在邏輯與適用場(chǎng)景上的差異，使其成為互補(bǔ)而非替代的檢測(cè)組合。從技術(shù)原理來看，兩者的 “探測(cè)語言” 截然不同。 微光顯微鏡是 “光子的捕捉者”，其重心在于高靈敏度的光子傳感器，能夠捕捉芯片內(nèi)部因電性能異常釋放的微弱光信號(hào) —— 這些信號(hào)可能來自 PN 結(jié)漏電時(shí)的電子躍遷，或是柵氧擊穿瞬間的能量釋放，波長(zhǎng)多集中在可見光至近紅外范圍。 我司微光顯微鏡探測(cè)芯片封裝打線及內(nèi)部線路短路產(chǎn)生的光子，快速定...

致晟光電在推動(dòng)產(chǎn)學(xué)研一體化進(jìn)程中，積極開展校企合作。公司依托南京理工大學(xué)光電技術(shù)學(xué)院，專注開發(fā)基于微弱光電信號(hào)分析的產(chǎn)品及應(yīng)用。雙方聯(lián)合攻克技術(shù)難題，不斷優(yōu)化實(shí)時(shí)瞬態(tài)鎖相紅外熱分析系統(tǒng)（RTTLIT），使該系統(tǒng)溫度靈敏度可達(dá)0.0001℃，功率檢測(cè)限低至1uW，部分功能及參數(shù)優(yōu)于進(jìn)口設(shè)備。此外，致晟光電還與其他高校建立合作關(guān)系，搭建起學(xué)業(yè)-就業(yè)貫通式人才孵化平臺(tái)。為學(xué)生提供涵蓋研發(fā)設(shè)計(jì)、生產(chǎn)實(shí)踐、項(xiàng)目管理全鏈條的育人平臺(tái)，輸送了大量實(shí)踐能力強(qiáng)的專業(yè)人才，為企業(yè)持續(xù)創(chuàng)新注入活力。通過建立科研成果產(chǎn)業(yè)孵化綠色通道，高校的前沿科研成果得以快速轉(zhuǎn)化為實(shí)際生產(chǎn)力，實(shí)現(xiàn)了高校科研資源與企業(yè)市場(chǎng)轉(zhuǎn)化能力的優(yōu)...

此外，可靠的產(chǎn)品質(zhì)量是企業(yè)贏得客戶信任、鞏固市場(chǎng)份額的基礎(chǔ)。通過微光顯微鏡(EMMI)的嚴(yán)格檢測(cè)，企業(yè)能確保交付給客戶的芯片具備穩(wěn)定的性能和較高的可靠性，減少因產(chǎn)品故障導(dǎo)致的客戶投訴和返工或者退貨風(fēng)險(xiǎn)。這種對(duì)質(zhì)量的堅(jiān)守，會(huì)逐漸積累成企業(yè)的品牌口碑，使客戶在選擇供應(yīng)商時(shí)更傾向于信賴具備完善檢測(cè)能力的企業(yè)，從而增強(qiáng)企業(yè)的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。 微光顯微鏡不僅是一種檢測(cè)工具，更是半導(dǎo)體企業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量、加快研發(fā)進(jìn)度、筑牢品牌根基的戰(zhàn)略資產(chǎn)。在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)日趨白熱化的當(dāng)今，配備先進(jìn)的微光顯微鏡設(shè)備，將幫助企業(yè)在技術(shù)創(chuàng)新與市場(chǎng)爭(zhēng)奪中持續(xù)領(lǐng)跑，構(gòu)筑起難以復(fù)制的核心競(jìng)爭(zhēng)力。 當(dāng)二極管處于正向偏置或反向...

考慮到部分客戶的特殊應(yīng)用場(chǎng)景，我們還提供Thermal&EMMI的個(gè)性化定制服務(wù)。無論是設(shè)備的功能模塊調(diào)整、性能參數(shù)優(yōu)化，還是外觀結(jié)構(gòu)適配，我們都能根據(jù)您的具體需求進(jìn)行專屬設(shè)計(jì)與研發(fā)。憑借高效的研發(fā)團(tuán)隊(duì)和成熟的生產(chǎn)體系，定制項(xiàng)目通常在 2-3 個(gè)月內(nèi)即可完成交付，在保證定制靈活性的同時(shí)，充分兼顧了交付效率，讓您的特殊需求得到及時(shí)且滿意的答案。致晟光電始終致力于為客戶提供更可靠、更貼心的服務(wù)，期待與您攜手共進(jìn)，共創(chuàng)佳績(jī)。我司團(tuán)隊(duì)改進(jìn)算法等技術(shù)，整合出 EMMI 芯片漏電定位系統(tǒng)，價(jià)低且數(shù)據(jù)整理準(zhǔn)、操作便，性價(jià)比高，居行業(yè)先頭。廠家微光顯微鏡價(jià)格挑選適配自身的微光顯微鏡 EMMI，關(guān)鍵在于明確需求...

同時(shí)，微光顯微鏡（EMMI）帶來的高效失效分析能力，能大幅縮短研發(fā)周期。在新產(chǎn)品研發(fā)階段，快速發(fā)現(xiàn)并解決失效問題，可避免研發(fā)過程中的反復(fù)試錯(cuò)，加快產(chǎn)品從實(shí)驗(yàn)室走向市場(chǎng)的速度。當(dāng)市場(chǎng)需求瞬息萬變時(shí)，更快的研發(fā)響應(yīng)速度意味著企業(yè)能搶先推出符合市場(chǎng)需求的產(chǎn)品，搶占市場(chǎng)先機(jī)。例如，在當(dāng)下市場(chǎng) 5G 芯片、AI 芯片等領(lǐng)域，技術(shù)迭代速度極快，誰能更早解決研發(fā)中的失效難題，誰就能在技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)中爭(zhēng)先一步，建立起差異化的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。通過與光譜儀聯(lián)用，可分析光子的光譜信息，為判斷缺陷類型提供更多依據(jù)，增強(qiáng)分析的全面性。什么是微光顯微鏡與光學(xué)顯微鏡對(duì)比 企業(yè)用戶何如去采購(gòu)適合自己的設(shè)備？ 功能側(cè)重的差異，讓它...

在故障分析領(lǐng)域，微光顯微鏡（EmissionMicroscope,EMMI）是一種極具實(shí)用價(jià)值且效率出眾的分析工具。其功能是探測(cè)集成電路（IC）內(nèi)部釋放的光子。在IC元件中，電子-空穴對(duì)（ElectronHolePairs,EHP）的復(fù)合過程會(huì)伴隨光子（Photon）的釋放。具體可舉例說明：當(dāng)P-N結(jié)施加偏壓時(shí)，N區(qū)的電子會(huì)向P區(qū)擴(kuò)散，同時(shí)P區(qū)的空穴也會(huì)向N區(qū)擴(kuò)散，隨后這些擴(kuò)散的載流子會(huì)與對(duì)應(yīng)區(qū)域的載流子（即擴(kuò)散至P區(qū)的電子與P區(qū)的空穴、擴(kuò)散至N區(qū)的空穴與N區(qū)的電子）發(fā)生EHP復(fù)合，并在此過程中釋放光子。它嘗試通過金屬層邊緣等位置的光子來定位故障點(diǎn)，解決了復(fù)雜的檢測(cè)難題。國(guó)產(chǎn)微光顯微鏡備件考慮...

需要失效分析檢測(cè)樣品，我們一般會(huì)在提前做好前期的失效背景調(diào)查和電性能驗(yàn)證工作，能夠?yàn)檎麄€(gè)失效分析過程找準(zhǔn)方向、提供依據(jù)，從而更高效、準(zhǔn)確地找出芯片失效的原因。 1.失效背景調(diào)查收集芯片型號(hào)、應(yīng)用場(chǎng)景、失效模式（如短路、漏電、功能異常等）、失效比例、使用環(huán)境（溫度、濕度、電壓）等。確認(rèn)失效是否可復(fù)現(xiàn)，區(qū)分設(shè)計(jì)缺陷、制程問題或應(yīng)用不當(dāng)（如過壓、ESD）。 2.電性能驗(yàn)證使用自動(dòng)測(cè)試設(shè)備（ATE）或探針臺(tái)（ProbeStation）復(fù)現(xiàn)失效，記錄關(guān)鍵參數(shù)（如I-V曲線、漏電流、閾值電壓偏移）。對(duì)比良品與失效芯片的電特性差異，縮小失效區(qū)域（如特定功能模塊）。 針對(duì)光器件，能定位光波導(dǎo)中...

得注意的是，兩種技術(shù)均支持對(duì)芯片進(jìn)行正面檢測(cè)（從器件有源區(qū)一側(cè)觀測(cè)）與背面檢測(cè)（透過硅襯底觀測(cè)），可根據(jù)芯片結(jié)構(gòu)、封裝形式靈活選擇檢測(cè)角度，確保在大范圍掃描中快速鎖定微小失效點(diǎn)（如微米級(jí)甚至納米級(jí)缺陷）。在實(shí)際失效分析流程中，PEM系統(tǒng)先通過EMMI與OBIRCH的協(xié)同掃描定位可疑區(qū)域，隨后結(jié)合去層處理（逐層去除芯片的金屬布線層、介質(zhì)層等）、掃描電子顯微鏡（SEM）的高分辨率成像以及光學(xué)顯微鏡的細(xì)節(jié)觀察，進(jìn)一步界定缺陷的物理形態(tài)（如金屬線腐蝕、氧化層剝落、晶體管柵極破損等），終追溯失效機(jī)理（如電遷移、熱載流子注入、工藝污染等）并完成根因分析。這種“定位-驗(yàn)證-溯源”的完整閉環(huán)，使得PEM系統(tǒng)在...

微光顯微鏡技術(shù)特性差異 探測(cè)靈敏度方向：EMMI 追求對(duì)微弱光子的高靈敏度（可檢測(cè)單光子級(jí)別信號(hào)），需配合暗場(chǎng)環(huán)境減少干擾；熱紅外顯微鏡則強(qiáng)調(diào)溫度分辨率（部分設(shè)備可達(dá) 0.01℃），需抑制環(huán)境熱噪聲。 空間分辨率：EMMI 的分辨率受光學(xué)系統(tǒng)和光子波長(zhǎng)限制，通常在微米級(jí)；熱紅外顯微鏡的分辨率與紅外波長(zhǎng)、鏡頭數(shù)值孔徑相關(guān)，一般略低于 EMMI，但更注重大面積熱分布的快速成像。 樣品處理要求：EMMI 對(duì)部分遮蔽性失效（如金屬下方漏電）需采用背面觀測(cè)模式，可能需要減薄、拋光樣品； 處理要求：熱紅外顯微鏡可透過封裝材料（如陶瓷、塑料）探測(cè)，對(duì)樣品破壞性較小，更適合非侵入式...