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重慶高級太陽光譜模擬代理

來源: 發(fā)布時間:2023-02-04

WTi-Al2O3金屬陶瓷基太陽光譜選擇性吸收涂層在600℃退火前后反射光譜變化圖、微結(jié)構(gòu)和熱強化機理示意圖   金屬納米粒子嵌入到陶瓷基體中組成的金屬陶瓷薄膜是太陽光譜選擇性吸收涂層的**工作層,其熱穩(wěn)定性和綜合光學(xué)性能直接決定著整個涂層的光熱轉(zhuǎn)換效率。高溫下,金屬陶瓷膜內(nèi)金屬納米粒子的團聚、長大、氧化及涂層內(nèi)層間原子的擴散遷徙,往往會導(dǎo)致成分和微結(jié)構(gòu)的變化,從而誘發(fā)涂層光學(xué)性能的衰減 (不可逆性)。如何解決上述問題,構(gòu)建熱穩(wěn)定性優(yōu)異、熱發(fā)射率低且吸收率高的太陽光譜選擇性吸收涂層,是光熱技術(shù)應(yīng)用所面臨的重要材料基礎(chǔ)問題。  膜層包括6層,從下到上依次為氧化鉻材質(zhì)的強化膜。重慶高級太陽光譜模擬代理

該儀器能夠快速顯示實時光譜,因此有可能找到具有***多普勒頻移的望遠鏡位置,同時在這些位置記錄更長的曝光光譜,提高信噪比。下圖所示的鐵譜線相隔約5pm,因為這些光譜不是在太陽圓盤的末端拍攝的。太陽自轉(zhuǎn)引起的兩條夫瑯和費鐵線(相對于未移動的氧線)多普勒頻移的測量。在左邊的圖表中,紅色和藍色的線是HF-8989-3光譜儀的實驗數(shù)據(jù),當時太陽圓盤的圖像通過輸入光纖移動到光譜儀(從一個邊緣到另一個邊緣)。每個實驗光譜的曝光時間<1秒。新疆下打光太陽光譜模擬銷售如何提高吸熱體的基材的外表面上的薄膜對太陽熱能的吸收,提高光熱轉(zhuǎn)換的效率。

4)反應(yīng)性濺鍍制備過渡膜:在第四真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻,反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜;步驟4)中,靶材為鉻靶,功率為15kw,電壓為510v,真空度為8.0e-6torr,鍍膜速度為6mm/s,氬氣流量為90sccm,氮氣流量為70sccm,氧氣流量為50sccm,制得的過渡膜的厚度為70nm;5)反應(yīng)性濺鍍制備吸收膜:在第五真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻,反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜;

技術(shù)實現(xiàn)要素:(一)要解決的技術(shù)問題針對于現(xiàn)有技術(shù)問題,本發(fā)明提出一種太陽光照補償值計算方法,用于至少部分解決上述技術(shù)問題。(二)技術(shù)方案本發(fā)明提供一種太陽光照補償值計算方法,用于對地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像進行光補償,包括:獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻及拍攝位置高程;根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度;根據(jù)太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽總輻照強度;針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時間、和/或拍攝位置對應(yīng)的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像,計算各自對應(yīng)的太陽總輻照強度相互之間的差值,得到各個地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像各像素之間的太陽光照補償值。反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜。

伴隨工作溫度的升高,如何抑制高溫下熱輻射損失顯得愈發(fā)重要?;谇捌诘难芯炕A(chǔ),研究組開發(fā)出另一種新型金屬陶瓷薄膜WTi-Al2O3。借助光學(xué)模擬設(shè)計,獲得太陽光譜選擇性吸收涂層結(jié)構(gòu)參數(shù)的優(yōu)化范圍,構(gòu)建了WTi-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層。經(jīng)600℃長時間(840 h)退火,WTi-Al2O3涂層仍保持較高的吸收率~93%,500℃下的熱發(fā)射率*有10.3%,遠低于文獻報道值(>13%@500℃)。研究表明,WTi合金納米粒子內(nèi)金屬Ti的外擴散、偏析及部分氧化可有效抑制W納米粒子的團聚和長大,從而提高涂層的熱穩(wěn)定性,實現(xiàn)對WTi-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層光學(xué)性能和熱穩(wěn)定性的雙重調(diào)控(Nano Energy 2017, 37, 232),科學(xué)家們設(shè)計和建造了一種新型太陽能電池的原型,將多個電池堆疊到一個設(shè)備中。太陽光譜模擬公司

本申請?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法,吸熱體由基材及設(shè)置在基材的外表面上膜層構(gòu)成。重慶高級太陽光譜模擬代理

2)濺鍍制備低發(fā)射率膜:在第二真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的銅離子沉積在步驟1)制得的強化膜的外表面上形成低發(fā)射率膜;3)反應(yīng)性濺鍍制備緩沖膜:在第三真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氮氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮化鉻,反應(yīng)生成的氮化鉻沉積在步驟2)制得的低發(fā)射率膜的外表面上形成緩沖膜;4)反應(yīng)性濺鍍制備過渡膜:在第四真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻,反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜;重慶高級太陽光譜模擬代理

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