機(jī)房建設(shè)工程注意事項(xiàng)
關(guān)于我國數(shù)據(jù)中心的工程建設(shè)標(biāo)準(zhǔn)情況
數(shù)據(jù)中心IDC機(jī)房建設(shè)工程
機(jī)房建設(shè)都有哪些內(nèi)容?
機(jī)房建設(shè)應(yīng)掌握哪些知識點(diǎn)?
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機(jī)房建設(shè)公司所說的A類機(jī)房和B類機(jī)房建設(shè)標(biāo)準(zhǔn)差別
數(shù)據(jù)中心機(jī)房建設(shè)需要考慮什么問題?
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全屏蔽弱電數(shù)據(jù)機(jī)房建設(shè)方案
類金剛石(DLC)膜涂層刀具的硬度高、摩擦系數(shù)低、耐摩擦和耐腐蝕性能強(qiáng)、抗粘結(jié)性能好,并且可以用來制作復(fù)雜、異型刀具,是未來刀具的一個(gè)重要發(fā)展方向.本文介紹了DLC膜的表面顯微結(jié)構(gòu)和Raman光譜并列舉了DLC的制備方法(包括磁控濺射、離子束沉積、脈沖激光沉積、真空陰極電弧沉積、等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積)與分類.從酸蝕法、施加過渡層、表面微噴砂處理和摻雜4個(gè)方面分析如何提高膜基結(jié)合力,探討了DLC膜的摩擦性能受濕度、溫度和加工條件的影響.例舉了幾個(gè)國內(nèi)外DLC涂層硬質(zhì)合金刀具的使用范例,指出了目前研究工作的不足之處,提出了下一步研究工作的重點(diǎn)是優(yōu)化DLC膜的制備工藝、提高膜基結(jié)合力和熱穩(wěn)定性以及加強(qiáng)DLC涂層硬質(zhì)合金刀具的磨損機(jī)理研究.上海英屹涂層技術(shù)有限公司引進(jìn)美國PE-CVD設(shè)備技術(shù)制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達(dá)60um膜層硬度高膜層摩擦系數(shù)低小于結(jié)合力好耐腐蝕性能好優(yōu)異的耐磨性膜層具有自潤滑性的優(yōu)點(diǎn)??梢越鉀QPVD涂層鍍不到的工件內(nèi)孔的問題。公司涂層已經(jīng)應(yīng)用于航空機(jī)械模具電子醫(yī)療汽車發(fā)動機(jī)部件等領(lǐng)域。類金剛石涂層的可控制備及其性能。拉伸模類金剛石
類金剛石膜DLC因其具有抗磨性、化學(xué)惰性、沉積溫度低、膜面光滑,可以將其作為一些電子產(chǎn)品的保護(hù)膜。如噴墨打印機(jī)墨盒加熱層上、磁存儲器的表面、錄音機(jī)磁頭極尖加一層類金剛石膜DLC保護(hù)層、不僅能有效的減少機(jī)械損傷,又不影響數(shù)據(jù)存儲。類金剛石膜具有電阻率高、絕緣性強(qiáng)、化學(xué)惰性高和低電子親和力等性能,且易在較大的基體上成膜。人們將類金剛石膜用作光刻電路板的掩膜,不僅可以避免操作過程中的機(jī)械損傷,還可以在去除薄膜表面的污染物允許用較激烈的機(jī)械或化學(xué)腐蝕方法,且同時(shí)不會破壞薄膜的表面,所以類金剛石膜有望代替SO2成為下一代集成電路的介質(zhì)材料。近年來,類金剛石膜在微電子領(lǐng)域的應(yīng)用,逐漸成為熱點(diǎn)。采用類金剛石膜和碳膜交替出現(xiàn)的多層膜結(jié)構(gòu)構(gòu)造成的多量子阱結(jié)構(gòu),具有共振隧道效應(yīng)的和獨(dú)特的電特性,在微電子領(lǐng)域有著潛在的應(yīng)用前景。類金剛石膜具有良好的表面平面光滑度,電子發(fā)射均勻性好,并且其具有負(fù)的電子親和勢,有效功函數(shù)相對較低的和較寬的禁帶寬度,即使在較低的外電場作用下,也可產(chǎn)生較大的發(fā)生電流,這個(gè)性能在平板顯示器中有著特殊的使用價(jià)值。拉伸模具類金剛石廠家類金剛石涂層DLC納米涂層加工。
利用ECR-PECVD技術(shù)在等離子體活化后的UHMWPE表面成功制備出一種含氫DLC薄膜。UHMWPE經(jīng)等離子體活化提高了其表面能和表面粗糙度,增強(qiáng)了與DLC間的膜基結(jié)合強(qiáng)度。DLC薄膜的沉積,進(jìn)一步提高了UHMWPE的表面硬度、表面抗擦傷能力和耐磨損能力。⑹UHMWPE表面金屬過渡層的引入,提高了DLC薄膜的沉積速率和薄膜中sp3鍵的含量,進(jìn)一步提高了UHMWPE的耐磨損性能⑺本文采用的“低溫等離子體活化/強(qiáng)化預(yù)處理+DLC薄膜沉積”的雙重表面改性技術(shù)對提高UHMWPE的耐磨性來說將起到雙重保障作用。將該技術(shù)應(yīng)用于UHMWPE人工關(guān)節(jié)臼的表面改性具有潛在的重要應(yīng)用價(jià)值。上海英屹涂層技術(shù)有限公司引進(jìn)美國PE-CVD設(shè)備技術(shù)制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達(dá)60um膜層硬度高膜層摩擦系數(shù)低小于結(jié)合力好耐腐蝕性能好優(yōu)異的耐磨性膜層具有自潤滑性的優(yōu)點(diǎn)??梢越鉀QPVD涂層鍍不到的工件內(nèi)孔的問題。公司涂層已經(jīng)應(yīng)用于航空機(jī)械模具電子醫(yī)療汽車發(fā)動機(jī)部件等領(lǐng)域。
類金剛石碳膜(diamond-likecarbonfilms,簡稱DLC膜),是含有類似金剛石結(jié)構(gòu)的非晶碳膜,也是我們在這里真正需要介紹的一種。DLC膜的基本成分是碳,由于其碳的來源和制備方法的差異,DLC膜可分為含氫和不含氫兩大類。DLC膜是一種亞穩(wěn)態(tài)長程無序的非晶材料,碳原子間的鍵合方式是共價(jià)鍵,主要包含sp2和sp3兩種雜化鍵,在含氫DLC膜中還存在一定數(shù)量的C-H鍵。我們從1996年起開始磁過濾真空弧及沉積DLC膜研究,正在完善工業(yè)化技術(shù)。如等離子體源沉積法、離子束源沉積法、孿生中頻磁控濺射法、真空陰極電弧沉積法和脈沖高壓放點(diǎn)等。DLC一般被用在高級腕表之上。
隨著技術(shù)及航空航天技術(shù)的發(fā)展,紅外技術(shù)越來越受到人們的重視,在及航天領(lǐng)域有著舉足輕重的作用。紅外光學(xué)元件的工作環(huán)境往往非常惡劣,如空-空導(dǎo)彈、超音速飛機(jī)等裝備光電系統(tǒng)的紅外窗口,需要承受灰塵、高溫、高壓、雨淋、冰雹撞擊、熱沖擊等嚴(yán)峻考驗(yàn),因此對紅外窗口材料的性能要求越來越苛刻,既要求材料在工作波段具有優(yōu)良的光學(xué)性能,還要求材料具有優(yōu)良的力學(xué)、耐磨損、耐高溫、耐腐蝕等性能。常作為紅外窗口的材料有鍺(Ge)、硫化鋅(ZnS)、硒化鋅(ZnSe)、砷化鎵(GaAs)、氟化鎂(MgF2)、藍(lán)寶石(sapphire)、尖晶石等,但這些材料在應(yīng)用中都存在著一些問題,例如,Ge在高溫時(shí)透過率下降;GaAs制備成本高且難制成大尺寸窗口;ZnS紅外透過率較低,耐濕性差;ZnSe雖然紅外透過率較高,但強(qiáng)度和耐腐蝕性差,等等,很難找到一種材料既有較高的紅外透過率,又有很好的綜合性能抵抗惡劣的環(huán)境且制備成本低。于是人們考慮在材料表面鍍上具有保護(hù)性能的紅外增透膜,而DLC膜恰恰順應(yīng)了時(shí)代的需求。類金剛石薄膜是混合物嗎?浦東塑膠模具類金剛石廠家
類金剛石DLC涂層應(yīng)用。拉伸模類金剛石
DLC具有較高的抗磨損性和化學(xué)惰性,將其應(yīng)用于一些醫(yī)用材料上,可以增加材料的使用壽命。比如聚乙烯的人工骨骼關(guān)節(jié)上沉積一層類金剛石膜增強(qiáng)了人工關(guān)節(jié)的耐磨性,其抗磨損性能就可以和陶瓷和金屬的制品相比了;Ti-Ni形狀記憶合金,是用于骨科內(nèi)固定機(jī)械,如果在其表面鍍一層類金剛石膜,使其具有良好的生物學(xué)摩擦特性和良好的抗氧化性;在鈦制品人工心臟瓣膜上鍍上類金剛石膜DLC,它表現(xiàn)出了較好的的表面光滑性和疏水性。類金剛石膜DLC具有良好的生物相容性,許多實(shí)驗(yàn)都發(fā)現(xiàn)它對蛋白質(zhì)的吸附率高,對血小板的吸附率低,可以在不影響主體特征前提下,從多種途徑促進(jìn)材料表面生成具有活性的功能簇,從而減少了血液凝固,使生物組織和植入的人工材料和平相處,減輕了患者的痛苦。拉伸模類金剛石