離子束濺射法DLC膜的制備及其性能表征采用離子束濺射方法，較低溫度下在Ti6A14V合金基底上沉積了DLC薄膜，重點(diǎn)考察了直流疊加脈沖共生偏壓大小對薄膜形貌、結(jié)構(gòu)和摩擦學(xué)性能的影響。制備薄膜為菲晶碳膜，薄膜表面粗糙度隨施加迭加偏壓增大有先減小后增大趨勢，而膜中sp3含量變化趨勢則與之相反。在選定的實(shí)驗(yàn)條件下，-100V偏壓時所制備的薄膜在空氣環(huán)境及Hank’s溶液潤滑下都具有比較優(yōu)異的摩擦學(xué)性能。上海英屹涂層技術(shù)有限公司引進(jìn)美國PE-CVD設(shè)備技術(shù)制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達(dá)60um膜層硬度高膜層摩擦系數(shù)低小于結(jié)合力好耐腐蝕性能好優(yōu)異的耐磨性膜層具有自潤滑性的優(yōu)點(diǎn)?？梢越鉀QPVD涂層鍍不到的工件內(nèi)孔的問題。公司涂層已經(jīng)應(yīng)用于航空機(jī)械模具電子醫(yī)療汽車發(fā)動機(jī)部件等領(lǐng)域。不同工藝下的DCL薄膜形貌不一樣。寶山區(qū)工具DLC涂層廠

碳是類金剛石膜的主要成分。碳元素有3種同素異形體，即金剛石、石墨和各種無定形碳。碳原子按組成鍵的不同存在3種不同形態(tài)，即sp1、sp2和sp3。類金剛石膜（DLC）是一種碳原子之間以共價鍵鍵合的亞穩(wěn)態(tài)的非晶體材料，其共價鍵主要含有sp2和sp32種雜化方式，同時在含氫的類金剛石膜DLC中還存在一些C-H鍵。由于碳源和制備方法的不同，可將類金剛石膜分為含氫和不含氫的兩大類，因此，DLC也被分為非晶體碳膜和非晶體含氫碳膜。簡單介紹一下sp1，sp2，sp3雜化。sp1雜化：處于基態(tài)的碳原子（電子排布式為：1s22s22p2）的一個2s電子激發(fā)至一個空的2p軌道上，使原子進(jìn)入激發(fā)態(tài)（電子排布式為：1s22s12p3）。然后，一個2s軌道再和上述填充了一個電子的2p軌道進(jìn)行sp雜化，形成兩個sp雜化軌道。剩余2個p軌道，上面各有1個單電子。sp2雜化：處于基態(tài)的碳原子（電子排布式為：1s22s22p2）的一個2s電子激發(fā)至一個空的2p軌道上，使原子進(jìn)入激發(fā)態(tài)（電子排布式為：1s22s12p3）。然后，一個2s軌道再和上述兩個各填充了一個電子的2p軌道進(jìn)行sp2雜化，形成三個sp2雜化軌道。剩余一個p軌道，上面有1個單電子。sp3雜化：處于基態(tài)的碳原子。松江區(qū)不銹鋼DLC多少錢不銹鋼表面沉積DLC膜的結(jié)構(gòu)和性能。

在DLC薄膜應(yīng)用的過程中，選擇合適種類的DLC薄膜顯得尤為重要。因此，DLC薄膜的分類以及分類標(biāo)準(zhǔn)的制定，直接影響了其在眾多領(lǐng)域的應(yīng)用。而傳統(tǒng)的DLC薄膜分類方法通常需要根據(jù)DLC薄膜的微結(jié)構(gòu)定量分析來完成。然而，這一方法需要基于大型同步輻射光源的X射線近邊吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)譜（NEXAFS）分析碳元素的成分和狀態(tài)；需要大型靜電加速器的盧瑟福背散射彈性反沖（RBS/ERDA）或者中子源等分析氫元素含量，執(zhí)行起來非常困難。因此，一般實(shí)驗(yàn)條件難以實(shí)現(xiàn)對DLC的準(zhǔn)確分類，從而導(dǎo)致DLC在應(yīng)用領(lǐng)域難以實(shí)現(xiàn)精細(xì)調(diào)控和定量研發(fā)。

類金剛石薄膜又稱山膜。碳的一種亞穩(wěn)態(tài)，組成主要是碳，也含有氫，其量隨工藝條件而異，多時可達(dá)20%。類金剛石具有很高的硬度、高導(dǎo)熱性、高絕緣性、良好的化學(xué)穩(wěn)定性、從紅外到紫外的高光學(xué)透過率等。這與金剛石相似，但其性能數(shù)值均低于金剛石膜。類金剛石膜已開始用作耐磨涂層。類金剛石碳（DLC）是非晶結(jié)構(gòu)，碳原子主要以sp3和sp2雜化鍵結(jié)合。含氫DLC又稱為α-C:H，其中氫含量在20%到50%之間。無氫類金剛石膜包括無氫非晶碳（α-C）和四面體非晶碳（ta-C）膜。α-C膜含有一些sp3鍵；ta-C膜中以sp3鍵為主（sp3>70%）。結(jié)構(gòu)類金剛石薄膜通常又被人們稱為DLC薄膜，是英文詞匯DiamondLikeCarbon的簡稱，它是一類性質(zhì)近似于金剛石，具有高硬度.高電阻率.良好光學(xué)性能等，同時又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之間的不同結(jié)合方式。負(fù)偏壓對DLC薄膜結(jié)構(gòu)和摩擦學(xué)性能的影響。

類金剛石薄膜的制備方法根據(jù)制備DLC薄膜碳源的不同，可將DLC薄膜的制備方法分為固體靶材為碳源的物相沉積法和含碳?xì)怏w為碳源的化學(xué)氣相沉積法。其中DLC薄膜的制備方法和性能也隨著相應(yīng)沉積技術(shù)的發(fā)展獲得改進(jìn)和提升。傳統(tǒng)的氣相沉積技術(shù)制備薄膜的能量來自于熱源。為制備性能更為優(yōu)異，功能應(yīng)用多樣化的新型特殊薄膜，傳統(tǒng)的鍍膜技術(shù)無法滿足實(shí)際的需求。為使薄膜達(dá)到更優(yōu)異的性能，逐漸地把各種氣體放電技術(shù)引入到薄膜材料制備的過程中，進(jìn)而發(fā)展形成了離子鍍膜技術(shù)。離子鍍膜技術(shù)能很大程度上增加膜層粒子的離化率，提高膜層粒子的整體能量，終高效地進(jìn)行薄膜的制備。相應(yīng)的，對于制備DLC薄膜的兩種主要方法也進(jìn)行了一定程度的補(bǔ)充優(yōu)化。DLC涂層技術(shù)是一種功能性較強(qiáng)的表面涂覆處理技術(shù)。江西電鍍DLC

DLC薄膜的功能特性是什么。寶山區(qū)工具DLC涂層廠

采用高功率脈沖磁控濺射技術(shù)制備DLC膜層,研究了偏壓的變化對膜層結(jié)構(gòu)及主要力學(xué)性能的影響.利用掃描電鏡、原子力顯微鏡、拉曼光譜儀、X射線光電子能譜儀、納米壓入儀、劃痕儀和磨擦磨損試驗(yàn)儀分析檢測了DLC膜結(jié)構(gòu)與性能.結(jié)果表明:偏壓的提高,有利于改善DLC膜的表面光潔度及致密性,DLC膜表面均方根粗糙度Rq由不施加偏壓時的9nm降低至偏壓為-350V的7nm;致密性的提高使沉積速率略有下降,膜層厚度減小.偏壓的增加,DLC膜內(nèi)部sp3含量先增加后減小趨勢,在偏壓為-250V時,DLC膜中sp3含量比較高.偏壓的增大,DLC膜的硬度、楊氏模量和摩擦磨損等主要力學(xué)性能均呈先增大后減小的趨勢,并在偏壓為-250V時達(dá)到比較高值,與微觀結(jié)構(gòu)變化趨勢相吻合.。寶山區(qū)工具DLC涂層廠