采用高功率脈沖磁控濺射技術(shù)制備DLC膜層,研究了偏壓的變化對膜層結(jié)構(gòu)及主要力學(xué)性能的影響.利用掃描電鏡、原子力顯微鏡、拉曼光譜儀、X射線光電子能譜儀、納米壓入儀、劃痕儀和磨擦磨損試驗(yàn)儀分析檢測了DLC膜結(jié)構(gòu)與性能.結(jié)果表明:偏壓的提高,有利于改善DLC膜的表面光潔度及致密性,DLC膜表面均方根粗糙度Rq由不施加偏壓時(shí)的9nm降低至偏壓為-350V的7nm;致密性的提高使沉積速率略有下降,膜層厚度減小.偏壓的增加,DLC膜內(nèi)部sp3含量先增加后減小趨勢,在偏壓為-250V時(shí),DLC膜中sp3含量比較高.偏壓的增大,DLC膜的硬度、楊氏模量和摩擦磨損等主要力學(xué)性能均呈先增大后減小的趨勢,并在偏壓為-250V時(shí)達(dá)到比較高值,與微觀結(jié)構(gòu)變化趨勢相吻合.。鋅鎳合金電鍍,特氟龍涂層,DLC涂層的性能區(qū)別？上海金剛石DLC涂層廠

介紹了采用物理相沉積(PVD)技術(shù)制備類金剛石涂層的方法,進(jìn)而論述了涂層的摩擦磨損和結(jié)合力等性能的研究現(xiàn)狀和發(fā)展前景.分析并綜述了類金剛石涂層的技術(shù)發(fā)展,以及制備類金剛石薄膜的方法和影響其性能的多種要素.表面涂有類金剛石薄膜的工件具有較高的硬度、良好的熱傳導(dǎo)率、極低的摩擦系數(shù)、優(yōu)異的電絕緣性能等.類金剛石薄膜(DLCFilms)是近年來興起的一種以sp3和sp2鍵的形式結(jié)合生成的亞穩(wěn)態(tài)材料,因其優(yōu)異的減摩和抗磨性能,在摩擦學(xué)領(lǐng)域獲得了應(yīng)用,是一種與金剛石涂層性能相似的新型薄膜材料.DLC涂層的性能研究大多集中在它的摩擦學(xué)特性和結(jié)合力性能,并且作為的涂層材料已被應(yīng)用于汽車、模具、刀具等領(lǐng)域.上海英屹涂層技術(shù)有限公司引進(jìn)美國PE-CVD設(shè)備技術(shù)制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達(dá)60um膜層硬度高膜層摩擦系數(shù)低小于結(jié)合力好耐腐蝕性能好優(yōu)異的耐磨性膜層具有自潤滑性的優(yōu)點(diǎn)。可以解決PVD涂層鍍不到的工件內(nèi)孔的問題。公司涂層已經(jīng)應(yīng)用于航空機(jī)械模具電子醫(yī)療汽車發(fā)動(dòng)機(jī)部件等領(lǐng)域。上海拉伸模DLCDLC薄膜的研究以及講解。

上海英屹涂層技術(shù)有限公司引進(jìn)美國PE-CVD設(shè)備技術(shù)制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達(dá)60um ， 是英文詞匯Diamond Like Carbon的簡稱，它是一類性質(zhì)近似于金剛石，具有高硬度，高電阻率。良好光學(xué)性能等，同時(shí)又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性的非晶碳薄膜。膜層硬度高  膜層摩擦系數(shù)低小于0.1 結(jié)合力好 耐腐蝕性能好 優(yōu)異的耐磨性 膜層具有自潤滑性的優(yōu)點(diǎn)?？梢越鉀QPVD涂層鍍不到的工件內(nèi)孔的問題。公司涂層已經(jīng)應(yīng)用于航空 機(jī)械 模具 電子 醫(yī)療 汽車發(fā)動(dòng)機(jī)部件等領(lǐng)域。

類金剛石在生物醫(yī)學(xué)特性及其應(yīng)用。由于DLC薄膜在化學(xué)成分上（碳、氫元素）能夠滿足生物相容性的要求并具有高硬度、低摩擦系數(shù)、化學(xué)惰性等特性，同時(shí)具備優(yōu)異的生物相容性和化學(xué)穩(wěn)定性，越來越多的研究者將目光投向了DLC薄膜在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用。例如人工關(guān)節(jié)表面沉積的DLC薄膜，可以增強(qiáng)人工關(guān)節(jié)的耐磨、耐蝕性能、減少磨屑、增加生物相容性，提高使用性能。在作為人工心臟瓣膜的鈦合金或不銹鋼表面沉積一層DLC薄膜，不僅能滿足生物相容性的要求，而且能夠提高該部件的機(jī)械和耐腐蝕性能，提高這些部件的使用性能。此外，DLC薄膜對蛋白質(zhì)的吸附率高，對血小板的吸附率低，可以在不影響主體特征的前提下，從多種途徑促進(jìn)材料表面生成具有活性的功能簇，從而減少血液凝固，使生物組織與植入的人工材料和諧相處，減輕患者的痛苦。真空鍍DLC膜的膜系結(jié)構(gòu)。

在DLC薄膜應(yīng)用的過程中，選擇合適種類的DLC薄膜顯得尤為重要。因此，DLC薄膜的分類以及分類標(biāo)準(zhǔn)的制定，直接影響了其在眾多領(lǐng)域的應(yīng)用。而傳統(tǒng)的DLC薄膜分類方法通常需要根據(jù)DLC薄膜的微結(jié)構(gòu)定量分析來完成。然而，這一方法需要基于大型同步輻射光源的X射線近邊吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)譜（NEXAFS）分析碳元素的成分和狀態(tài)；需要大型靜電加速器的盧瑟福背散射彈性反沖（RBS/ERDA）或者中子源等分析氫元素含量，執(zhí)行起來非常困難。因此，一般實(shí)驗(yàn)條件難以實(shí)現(xiàn)對DLC的準(zhǔn)確分類，從而導(dǎo)致DLC在應(yīng)用領(lǐng)域難以實(shí)現(xiàn)精細(xì)調(diào)控和定量研發(fā)。不同過渡層對DLC薄膜力學(xué)性能和摩擦學(xué)性能的影響。蘇州納米DLC廠家

DLC鍍膜鋼領(lǐng)磨損原因與鍍膜工藝改進(jìn)。上海金剛石DLC涂層廠

類金剛石碳膜(diamond-likecarbonfilms，簡稱DLC膜)，是含有類似金剛石結(jié)構(gòu)的非晶碳膜，也是我們在這里真正需要介紹的一種。DLC膜的基本成分是碳，由于其碳的來源和制備方法的差異，DLC膜可分為含氫和不含氫兩大類。DLC膜是一種亞穩(wěn)態(tài)長程無序的非晶材料，碳原子間的鍵合方式是共價(jià)鍵，主要包含sp2和sp3兩種雜化鍵，在含氫DLC膜中還存在一定數(shù)量的C-H鍵。我們從1996年起開始磁過濾真空弧及沉積DLC膜研究，正在完善工業(yè)化技術(shù)。如等離子體源沉積法、離子束源沉積法、孿生中頻磁控濺射法、真空陰極電弧沉積法和脈沖高壓放點(diǎn)等。不同的制備方法，DLC膜的成分、結(jié)構(gòu)和性能不同。類金剛石碳膜(Diamond-likecarbonfilms，簡稱DLC膜)作為新型的硬質(zhì)薄膜材料具有一系列優(yōu)異的性能，如高硬度、高耐磨性、高熱導(dǎo)率、高電阻率、良好的光學(xué)透明性、化學(xué)惰性等，可用于機(jī)械、電子、光學(xué)、熱學(xué)、聲學(xué)、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，具有良好的應(yīng)用前景。我們開發(fā)了等離子體-離子束源增強(qiáng)沉積系統(tǒng)，并同過該系統(tǒng)中的磁過濾真空陰極弧和非平衡磁控濺射來進(jìn)行DLC膜的開發(fā)。該項(xiàng)技術(shù)用于電子、裝飾、宇航、機(jī)械和信息等領(lǐng)域，用于摩擦、光學(xué)功能等用途。目前在我國技術(shù)正處于發(fā)展和完善階段，有巨大市場潛力。上海金剛石DLC涂層廠