介紹了采用物理相沉積(PVD)技術(shù)制備類金剛石涂層的方法,進(jìn)而論述了涂層的摩擦磨損和結(jié)合力等性能的研究現(xiàn)狀和發(fā)展前景.分析并綜述了類金剛石涂層的技術(shù)發(fā)展,以及制備類金剛石薄膜的方法和影響其性能的多種要素.表面涂有類金剛石薄膜的工件具有較高的硬度、良好的熱傳導(dǎo)率、極低的摩擦系數(shù)、優(yōu)異的電絕緣性能等.類金剛石薄膜(DLCFilms)是近年來興起的一種以sp3和sp2鍵的形式結(jié)合生成的亞穩(wěn)態(tài)材料,因其優(yōu)異的減摩和抗磨性能,在摩擦學(xué)領(lǐng)域獲得了應(yīng)用,是一種與金剛石涂層性能相似的新型薄膜材料.DLC涂層的性能研究大多集中在它的摩擦學(xué)特性和結(jié)合力性能,并且作為的涂層材料已被應(yīng)用于汽車、模具、刀具等領(lǐng)域.上海英屹涂層技術(shù)有限公司引進(jìn)美國PE-CVD設(shè)備技術(shù)制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達(dá)60um膜層硬度高膜層摩擦系數(shù)低小于結(jié)合力好耐腐蝕性能好優(yōu)異的耐磨性膜層具有自潤滑性的優(yōu)點(diǎn)?？梢越鉀QPVD涂層鍍不到的工件內(nèi)孔的問題。公司涂層已經(jīng)應(yīng)用于航空機(jī)械模具電子醫(yī)療汽車發(fā)動機(jī)部件等領(lǐng)域。DLC類金剛石鍍膜技術(shù)。閔行金屬DLC涂層廠

類金剛石碳膜(diamond-likecarbonfilms，簡稱DLC膜)，是含有類似金剛石結(jié)構(gòu)的非晶碳膜，也是我們在這里真正需要介紹的一種。DLC膜的基本成分是碳，由于其碳的來源和制備方法的差異，DLC膜可分為含氫和不含氫兩大類。DLC膜是一種亞穩(wěn)態(tài)長程無序的非晶材料，碳原子間的鍵合方式是共價鍵，主要包含sp2和sp3兩種雜化鍵，在含氫DLC膜中還存在一定數(shù)量的C-H鍵。我們從1996年起開始磁過濾真空弧及沉積DLC膜研究，正在完善工業(yè)化技術(shù)。如等離子體源沉積法、離子束源沉積法、孿生中頻磁控濺射法、真空陰極電弧沉積法和脈沖高壓放點(diǎn)等。不同的制備方法，DLC膜的成分、結(jié)構(gòu)和性能不同。類金剛石碳膜(Diamond-likecarbonfilms，簡稱DLC膜)作為新型的硬質(zhì)薄膜材料具有一系列優(yōu)異的性能，如高硬度、高耐磨性、高熱導(dǎo)率、高電阻率、良好的光學(xué)透明性、化學(xué)惰性等，可用于機(jī)械、電子、光學(xué)、熱學(xué)、聲學(xué)、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，具有良好的應(yīng)用前景。我們開發(fā)了等離子體-離子束源增強(qiáng)沉積系統(tǒng)，并同過該系統(tǒng)中的磁過濾真空陰極弧和非平衡磁控濺射來進(jìn)行DLC膜的開發(fā)。該項(xiàng)技術(shù)用于電子、裝飾、宇航、機(jī)械和信息等領(lǐng)域，用于摩擦、光學(xué)功能等用途。目前在我國技術(shù)正處于發(fā)展和完善階段，有巨大市場潛力。杭州模具DLC工藝DLC耳機(jī)膜片優(yōu)勢特點(diǎn)。

類金剛石薄膜通常又被人們稱為DLC薄膜，是英文詞匯DiamondLikeCarbon的簡稱，它是一類性質(zhì)近似于金剛石，具有高硬度.高電阻率.良好光學(xué)性能等，同時又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之間的不同結(jié)合方式，從而使其終產(chǎn)生不同的物質(zhì)：金剛石（diamond）—碳碳以sp3鍵的形式結(jié)合；石墨（graphite）—碳碳以sp2鍵的形式結(jié)合；而如同緒論里所述類金剛石（DLC）—碳碳則是以sp3和sp2鍵的形式結(jié)合，生成的無定形碳的一種亞穩(wěn)定形態(tài)，它沒有嚴(yán)格的定義，可以包括很寬性質(zhì)范圍的非晶碳，因此兼具了金剛石和石墨的優(yōu)良特性；所以由類金剛石而來的DLC膜同樣是一種亞穩(wěn)態(tài)長程無序的非晶材料，碳原子間的鍵合方式是共價鍵，主要包含sp2和sp3兩種雜化鍵，而在含氫的DLC膜中還存在一定數(shù)量的C-H鍵。

通常把一系列含有sp3和sp2雜化的不穩(wěn)定的非晶碳膜統(tǒng)稱為類金剛石薄膜（DLC），這類薄膜具有高的硬度，低的摩擦因數(shù)，優(yōu)異的耐磨性，良好的光學(xué)透過性和生物相容性，是近年來引起重視的一種新型功能薄膜材料。膜基結(jié)合力強(qiáng)弱是決定涂層壽命的關(guān)鍵因素，也是決定所有涂層應(yīng)用價值的較基礎(chǔ)因素。DLC涂層結(jié)合強(qiáng)度不高，通過納米調(diào)制等手段來提高其結(jié)合力。其中硼摻雜類金剛石涂層的研究主要集中在電化學(xué)和生物相容性方面,首先采用射頻磁控濺射法在不同基底材料上制備了類金剛石涂層，分析了基底材料對涂層結(jié)構(gòu)及膜基結(jié)合力的影響，通過原子力顯微鏡、掃描電鏡、拉曼光譜結(jié)果表明：射頻磁控濺射和閉合場非平衡磁控濺射制備的類金剛石涂層，上海英屹涂層技術(shù)有限公司引進(jìn)美國PE-CVD設(shè)備技術(shù)制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達(dá)60um膜層硬度高膜層摩擦系數(shù)低小于結(jié)合力好耐腐蝕性能好優(yōu)異的耐磨性膜層具有自潤滑性的優(yōu)點(diǎn)。可以解決PVD涂層鍍不到的工件內(nèi)孔的問題。公司涂層已經(jīng)應(yīng)用于航空機(jī)械模具電子醫(yī)療汽車發(fā)動機(jī)部件等領(lǐng)域。DLC薄膜的工程化應(yīng)用工藝設(shè)計(jì)。

智能手機(jī)發(fā)展至今，硬件技術(shù)革新突飛猛進(jìn)，不少千元手機(jī)都已經(jīng)擁有了旗艦配置，足以滿足日常使用的基本需求。都說眼睛是心靈的窗戶，那么屏幕就是手機(jī)的窗戶，而千元機(jī)的手機(jī)屏幕玻璃，往往質(zhì)量堪憂，用不了幾個星期，就會出現(xiàn)明顯的劃痕。類金剛石鍍膜在原有屏幕玻璃的結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)之上，額外覆蓋了一層類金剛石薄膜，除了防污疏油、順滑手感之外、增強(qiáng)玻璃硬度是重要的作用。經(jīng)過oDLC類金剛石鍍膜技術(shù)處理過的手機(jī)，其屏幕玻璃耐刮性能達(dá)到9H++級別，可以與藍(lán)寶石玻璃相媲美。經(jīng)過實(shí)際測試，用金屬刀尖這樣尖銳的物體反復(fù)刮擦，也不會留下任何痕跡，應(yīng)付各種日常使用場景更是不在話下，oDLC類金剛石鍍膜就像是給手機(jī)屏幕裝上了一層金剛外衣，對手機(jī)屏幕起到至關(guān)重要的保護(hù)作用。對于常年暴露在危險環(huán)境中的手機(jī)屏幕來說，oDLC類金剛石鍍膜技術(shù)簡直是救星一般的存在。負(fù)偏壓對DLC薄膜結(jié)構(gòu)和摩擦學(xué)性能的影響。浦東銑刀DLC價格

真空鍍DLC膜的膜系結(jié)構(gòu)。閔行金屬DLC涂層廠

DLC薄膜制備技術(shù)的研究開始于七十年代。1971年Aisenberg和Chabot成功地利用碳離子束沉積出DLC薄膜以來，離子束沉積法(Ionbeamdeposition)是開始用于制備DLC膜。其后研究者發(fā)現(xiàn)了一系列生成DLC薄膜的辦法。Maissel等在《薄膜工藝手冊》一書中指出，大多數(shù)能夠在氣相中沉積的薄膜材料也能在液相中通過電化學(xué)方法合成，反之亦然。給DLC薄膜的制備帶來了新的思路，現(xiàn)在除了常見的化學(xué)氣相沉積(CVD)和物相沉積(PVD)，也可以通過液相的電化學(xué)沉積來制備DLC膜。因此通常在兩個電極之間施加很高的電壓，即利用強(qiáng)電場使溶液中的C-H、C-O和O-H等鍵發(fā)生斷裂生成碳碎片，從而使含碳的成分以極性基團(tuán)或離子的形式到達(dá)基片，并且在基片所處的高電位下得以活化，進(jìn)而生成含一定sp3成分的類金剛石薄膜。閔行金屬DLC涂層廠