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DLC薄膜本身沒有顏色,不具備色素顯色(如花朵的顏色)的條件,其顯色都來源于結(jié)構(gòu)的不同,屬于典型的結(jié)構(gòu)顯色(如彩虹的顏色)。其中,氫元素和sp2雜化碳的含量直接影響DLC薄膜顏色的鮮艷程度,薄膜顯色可以歸結(jié)于等距層狀結(jié)構(gòu)的薄膜干涉;而隨著氫含量的降低和sp2雜化碳一定程度的增加,使得薄膜光吸收增加,DLC顏色變得暗淡,薄膜干涉不能完全解釋,需引入非晶光子晶體顯色機(jī)制。當(dāng)sp3含量明顯增加時(shí),DLC薄膜接近于透明的金剛石薄膜時(shí),非晶光子晶體顯色機(jī)制占主導(dǎo)作用。據(jù)此,研究人員成功發(fā)展出利用DLC薄膜顏色快速分析DLC薄膜種類和結(jié)構(gòu)的新方法。該方法不需要傳統(tǒng)DLC分類手段的苛刻實(shí)驗(yàn)條件,通過簡單的顏色規(guī)律實(shí)現(xiàn)DLC薄膜的快速初步分類,將推動其在多個(gè)重要應(yīng)用領(lǐng)域的快速發(fā)展。純DLC膜具有優(yōu)異的耐蝕性,各類酸、堿甚至王水都很難侵蝕它。常州電鍍DLC
利用射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)以CH4、H2為氣源,Ar為稀釋氣體,在不銹鋼、玻璃等基底上制備大面積類金剛石碳膜(DLC)。并對所制備的DLC碳膜采用拉曼光譜(Raman)、X射線光電子能譜(XPS)、傅立葉紅外光譜(FT-IR)、掃描電子顯微鏡(SEM)等研究手段對樣品的形貌和結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征;利用納米顯微硬度計(jì)和摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)對DLC碳膜的機(jī)械和摩擦學(xué)特性進(jìn)行了研究,得到了摩擦性能隨沉積參數(shù)和實(shí)驗(yàn)條件的變化規(guī)律,對DLC碳膜的自潤滑機(jī)制和磨損機(jī)理進(jìn)行了探索。上海英屹涂層技術(shù)有限公司引進(jìn)美國PE-CVD設(shè)備技術(shù)制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達(dá)60um膜層硬度高膜層摩擦系數(shù)低小于結(jié)合力好耐腐蝕性能好優(yōu)異的耐磨性膜層具有自潤滑性的優(yōu)點(diǎn)??梢越鉀QPVD涂層鍍不到的工件內(nèi)孔的問題。公司涂層已經(jīng)應(yīng)用于航空機(jī)械模具電子醫(yī)療汽車發(fā)動機(jī)部件等領(lǐng)域。嘉定塑膠模DLC價(jià)格類金剛石涂層(DLC)鉆頭較小。
DLC薄膜的制備方法:利用化學(xué)氣相沉積制備的DLC薄膜膜層致密,和基體結(jié)合力好。某些特殊薄膜還具有特異的光學(xué)、點(diǎn)穴和熱血等各種物理和化學(xué)性能,這類膜層表現(xiàn)出許多優(yōu)點(diǎn),包括膜厚比較均勻,膜層質(zhì)量穩(wěn)定,繞鍍性好且易于實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn),因此得到了廣泛應(yīng)用。從沉積條件看,要實(shí)現(xiàn)氣體與基體界面的化學(xué)反應(yīng),在沉積反應(yīng)過程中必須有一定的開啟能。按照開啟方式的不同,可以分為熱絲化學(xué)氣相沉積(HFCVD)、直接光化學(xué)氣相沉積(DPCVD)和等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)等幾種方式。
DLC薄膜制備技術(shù)的研究開始于七十年代。1971年Aisenberg和Chabot成功地利用碳離子束沉積出DLC薄膜以來,離子束沉積法(Ionbeamdeposition)是開始用于制備DLC膜。其后研究者發(fā)現(xiàn)了一系列生成DLC薄膜的辦法。Maissel等在《薄膜工藝手冊》一書中指出,大多數(shù)能夠在氣相中沉積的薄膜材料也能在液相中通過電化學(xué)方法合成,反之亦然。給DLC薄膜的制備帶來了新的思路,現(xiàn)在除了常見的化學(xué)氣相沉積(CVD)和物相沉積(PVD),也可以通過液相的電化學(xué)沉積來制備DLC膜。因此通常在兩個(gè)電極之間施加很高的電壓,即利用強(qiáng)電場使溶液中的C-H、C-O和O-H等鍵發(fā)生斷裂生成碳碎片,從而使含碳的成分以極性基團(tuán)或離子的形式到達(dá)基片,并且在基片所處的高電位下得以活化,進(jìn)而生成含一定sp3成分的類金剛石薄膜。類金剛石(DLC)膜涂層刀具的硬度高、摩擦系數(shù)低、耐摩擦和耐腐蝕性能強(qiáng)、抗粘結(jié)性能好。
類金剛石膜DLC因其具有抗磨性、化學(xué)惰性、沉積溫度低、膜面光滑,可以將其作為一些電子產(chǎn)品的保護(hù)膜。如噴墨打印機(jī)墨盒加熱層上、磁存儲器的表面、錄音機(jī)磁頭極尖加一層類金剛石膜DLC保護(hù)層、不僅能有效的減少機(jī)械損傷,又不影響數(shù)據(jù)存儲。類金剛石膜具有電阻率高、絕緣性強(qiáng)、化學(xué)惰性高和低電子親和力等性能,且易在較大的基體上成膜。人們將類金剛石膜用作光刻電路板的掩膜,不僅可以避免操作過程中的機(jī)械損傷,還可以在去除薄膜表面的污染物允許用較激烈的機(jī)械或化學(xué)腐蝕方法,且同時(shí)不會破壞薄膜的表面,所以類金剛石膜有望代替SO2成為下一代集成電路的介質(zhì)材料。近年來,類金剛石膜在微電子領(lǐng)域的應(yīng)用,逐漸成為熱點(diǎn)。采用類金剛石膜和碳膜交替出現(xiàn)的多層膜結(jié)構(gòu)構(gòu)造成的多量子阱結(jié)構(gòu),具有共振隧道效應(yīng)的和獨(dú)特的電特性,在微電子領(lǐng)域有著潛在的應(yīng)用前景。類金剛石膜具有良好的表面平面光滑度,電子發(fā)射均勻性好,并且其具有負(fù)的電子親和勢,有效功函數(shù)相對較低的和較寬的禁帶寬度,即使在較低的外電場作用下,也可產(chǎn)生較大的發(fā)生電流,這個(gè)性能在平板顯示器中有著特殊的使用價(jià)值。優(yōu)化的沉積類金剛石(DLC)涂層工藝及過渡層技術(shù)。上海電鍍DLC技術(shù)
DLC類金剛石鍍膜技術(shù)。常州電鍍DLC
DLC具有較高的抗磨損性和化學(xué)惰性,將其應(yīng)用于一些醫(yī)用材料上,可以增加材料的使用壽命。比如聚乙烯的人工骨骼關(guān)節(jié)上沉積一層類金剛石膜增強(qiáng)了人工關(guān)節(jié)的耐磨性,其抗磨損性能就可以和陶瓷和金屬的制品相比了;Ti-Ni形狀記憶合金,是用于骨科內(nèi)固定機(jī)械,如果在其表面鍍一層類金剛石膜,使其具有良好的生物學(xué)摩擦特性和良好的抗氧化性;在鈦制品人工心臟瓣膜上鍍上類金剛石膜DLC,它表現(xiàn)出了較好的的表面光滑性和疏水性。而且類金剛石膜DLC具有良好的生物相容性,許多實(shí)驗(yàn)都發(fā)現(xiàn)它對蛋白質(zhì)的吸附率高,對血小板的吸附率低,可以在不影響主體特征前提下,從多種途徑促進(jìn)材料表面生成具有活性的功能簇,從而減少了血液凝固,使生物組織和植入的人工材料和平相處,減輕了患者的痛苦。DLC作為固體潤滑材料,減摩性和耐磨性都很好,這樣就降低了生物醫(yī)學(xué)材料的磨損,延長材料使用壽命。同時(shí),DLC作為一種碳膜,是一種碳素生物醫(yī)學(xué)材料,在生理環(huán)境中呈化學(xué)惰性,不會引起生物化學(xué)反應(yīng)。研究表明,金屬生物醫(yī)學(xué)材料磨損所產(chǎn)生的碎屑可以引起嚴(yán)重的組織反應(yīng),從而導(dǎo)致植入物周圍的骨損傷,引起裝置松動。DLC具有良好的耐磨性和生物化學(xué)惰性,研究表明鍍有DLC髖關(guān)節(jié)假體。常州電鍍DLC