主營產(chǎn)品: 微納加工技術(shù)服務(wù)|真空鍍膜技術(shù)服務(wù)|紫外光刻技術(shù)服務(wù)|材料刻蝕技術(shù)服務(wù)
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MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))材料刻蝕是微納加工領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)之一。MEMS器件通常具有微小的尺寸和復(fù)雜的結(jié)構(gòu),因此要求刻蝕技術(shù)具有高精度、高均勻性...
光源的能量密度對光刻膠的曝光效果也有著直接的影響。能量密度過高會導(dǎo)致光刻膠過度曝光,產(chǎn)生不必要的副產(chǎn)物,從而影響圖形的清晰度和分辨率。相反,...
光源穩(wěn)定性是影響光刻圖形精度的關(guān)鍵因素之一。在光刻過程中,光源的不穩(wěn)定會導(dǎo)致曝光劑量不一致,從而影響圖形的對準(zhǔn)精度和終端質(zhì)量。因此,在進(jìn)行光...
氮化硅(Si3N4)作為一種高性能的陶瓷材料,在微電子、光電子和生物醫(yī)療等領(lǐng)域具有普遍應(yīng)用。然而,氮化硅的高硬度和化學(xué)穩(wěn)定性也給其刻蝕工藝帶...
廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所微納加工平臺,面向半導(dǎo)體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領(lǐng)域,致力于打造***的公益性、開放性、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備,建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線,加工尺寸覆蓋2-6英寸(部分8英寸),同時形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專業(yè)人才隊伍。平臺當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù),面向國內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,為技術(shù)咨詢、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供技術(shù)支持。