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生產(chǎn)太陽光譜模擬AM0

來源: 發(fā)布時間:2023-03-10

技術(shù)實現(xiàn)要素:(一)要解決的技術(shù)問題針對于現(xiàn)有技術(shù)問題,本發(fā)明提出一種太陽光照補償值計算方法,用于至少部分解決上述技術(shù)問題。(二)技術(shù)方案本發(fā)明提供一種太陽光照補償值計算方法,用于對地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像進行光補償,包括:獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻及拍攝位置高程;根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度;根據(jù)太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽總輻照強度;針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時間、和/或拍攝位置對應(yīng)的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像,計算各自對應(yīng)的太陽總輻照強度相互之間的差值,得到各個地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像各像素之間的太陽光照補償值。膜層的附著力根據(jù)標準要求測試,結(jié)果為1級;本申請制備的膜層的光熱轉(zhuǎn)換的效率為77%~82%。生產(chǎn)太陽光譜模擬AM0

根據(jù)本發(fā)明的實施例的模塊、單元中的任意多個、或其中任意多個的至少部分功能可以在一個模塊中實現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明實施例的模塊、單元中的任意一個或多個可以被拆分成多個模塊來實現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明實施例的模塊、單元中的任意一個或多個可以至少被部分地實現(xiàn)為硬件電路,例如現(xiàn)場可編程門陣列(fpga)、可編程邏輯陣列(pla)、片上系統(tǒng)、基板上的系統(tǒng)、封裝上的系統(tǒng)、**集成電路(asic),或可以通過對電路進行集成或封裝的任何其他的合理方式的硬件或固件來實現(xiàn),或以軟件、硬件以及固件三種實現(xiàn)方式中任意一種或以其中任意幾種的適當組合來實現(xiàn)?;蛘?,根據(jù)本發(fā)明實施例的模塊、單元中的一個或多個可以至少被部分地實現(xiàn)為計算機程序模塊,當該計算機程序模塊被運行時,可以執(zhí)行相應(yīng)的功能。生產(chǎn)太陽光譜模擬AM0經(jīng)國家節(jié)能產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心檢測,該六層膜的膜層具有優(yōu)異的性能。

具體實施方式為使本發(fā)明實施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚,下面將結(jié)合本發(fā)明實施例,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例是本發(fā)明的一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。本申請?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法,包括以下依次進行的步驟:1)反應(yīng)性濺鍍制備強化膜:在***真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻,反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在吸熱體的基材的外表面上形成強化膜;

et(d,α,z)=ed(d,α,z)+es(α,z),(12)其中,ed(d,α,z)與es(α,z)可從操作s102中得出。s104,針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時間、和/或拍攝位置對應(yīng)的所述地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像,計算各自對應(yīng)的太陽總輻照強度相互之間的差值,得到各個地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像之間的太陽光照補償值。從方程(12)可以看出,由于太陽高度角α(x,y,d,t)由遙感圖像中像素點坐標值(x,y)、圖像拍攝時間在一年中的第d天和拍攝時間t決定,因此太陽總輻照強度et(d,α,z)由遙感圖像中像素點坐標值(x,y)、(x,y)處的高程z,圖像拍攝時間在一年中的第d天和拍攝時間t決定,則et(x,y,z,d,t)≡et(d,α,z).(1)因為不同物質(zhì)被離子擊出的濺擊產(chǎn)額不同,因此不容易控制化合物的成份組成與性質(zhì)。

正因為如此,來自太陽圓盤一側(cè)的光會因多普勒效應(yīng)而紅移,而另一側(cè)的光會藍移。我們可以觀察和理解這些位移,因為太陽譜線波長相對于大氣氧線的位移——地球大氣吸收產(chǎn)生的氧線相對于望遠鏡是靜止的。從太陽圓盤邊緣到邊緣的比較大多普勒頻移只有~8pm,因此HF-8989-3的儀器分辨率(~1pm),對于測試時必要的。同時,LightMachinery光譜儀的快速采集速率也非常有利于這類測量。與其建立一個復(fù)雜的成像系統(tǒng)來顯示耦合到光譜儀光纖中的太陽圓盤部分,不如簡單地設(shè)置SpectraLoK軟件,在望遠鏡從一個分支掃描到另一個分支時,每100毫秒記錄一次新的光譜。此外,堆疊過程使用了一種名為轉(zhuǎn)印的技術(shù),這一技術(shù)能以高精度三維組裝這些微小的設(shè)備。浙江太陽光譜模擬價格

雖然科學(xué)家們?yōu)榱藢崿F(xiàn)更具效率的太陽能電池已經(jīng)努力多年,這一方法具有兩個創(chuàng)新之處。生產(chǎn)太陽光譜模擬AM0

本申請?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法,吸熱體由基材以及設(shè)置在基材的外表面上的膜層構(gòu)成,膜層包括6層,從下到上依次為氧化鉻材質(zhì)的強化膜、銅材質(zhì)的低發(fā)射率膜、氮化鉻材質(zhì)的緩沖膜、氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻的混合物材質(zhì)的過渡膜、氧化鉻材質(zhì)的吸收膜、二氧化硅材質(zhì)的抗反射膜,其中強化膜、緩沖膜、過渡膜、吸收膜以及抗反射膜均為通過反應(yīng)性濺就鍍制備得到,銅材質(zhì)的低發(fā)射率膜為通過直流濺鍍制備得到;生產(chǎn)太陽光譜模擬AM0

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