獲取模塊310，用于獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻和拍攝位置高程。***計(jì)算模塊320，用于根據(jù)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻和拍攝位置高程，計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強(qiáng)度和太陽散射輻射強(qiáng)度。第二計(jì)算模塊330，用于根據(jù)太陽直接輻射強(qiáng)度和太陽散射輻射強(qiáng)度，計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽總輻照強(qiáng)度。第三計(jì)算模塊340，用于針對(duì)于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時(shí)間、和/或拍攝位置對(duì)應(yīng)的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像，計(jì)算各自對(duì)應(yīng)的太陽總輻照強(qiáng)度相互之間的差值，得到各個(gè)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像之間的太陽光照補(bǔ)償值。為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例。江西銷售太陽光譜模擬價(jià)格

6)反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。推薦的，步驟1)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的強(qiáng)化膜的厚度為30～120nm。推薦的，步驟2)中，靶材為銅靶，氬氣流量為50～500sccm，制得的低發(fā)射率膜的厚度為180～220nm。吉林下打光太陽光譜模擬代理科學(xué)家們?cè)O(shè)計(jì)和建造了一種新型太陽能電池的原型，將多個(gè)電池堆疊到一個(gè)設(shè)備中。

在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中，步驟2)中，靶材為銅靶，氬氣流量為50～500sccm，制得的低發(fā)射率膜的厚度為180～220nm。在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中，步驟3)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～300sccm，氮?dú)饬髁繛?0～100sccm，制得的緩沖膜的厚度為30～150nm。在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中，步驟4)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～500sccm，氮?dú)饬髁繛?0～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的過渡膜的厚度為30～100nm。在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中，步驟5)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～300sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的吸收膜的厚度為30～120nm。

經(jīng)檢測(cè)，本實(shí)施例1制備的膜層的吸收率為94％，比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的吸收率提高了3％～9％；本申請(qǐng)制備的膜層的發(fā)射率為4％，比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的發(fā)射率降低了3％～12％；膜層的附著力根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)要求測(cè)試，結(jié)果為1級(jí)；采用本申請(qǐng)制備的膜層的太陽能集熱器的熱效率為80.4％，比采用現(xiàn)有技術(shù)中膜層的太陽能集熱器的熱效率提高了6％～8.4％。本發(fā)明未詳盡描述的方法和裝置均為現(xiàn)有技術(shù)，不再贅述。本文中應(yīng)用了具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其**思想。應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行若干改進(jìn)和修飾，這些改進(jìn)和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。

伴隨工作溫度的升高，如何抑制高溫下熱輻射損失顯得愈發(fā)重要。基于前期的研究基礎(chǔ)，研究組開發(fā)出另一種新型金屬陶瓷薄膜WTi-Al2O3。借助光學(xué)模擬設(shè)計(jì)，獲得太陽光譜選擇性吸收涂層結(jié)構(gòu)參數(shù)的優(yōu)化范圍，構(gòu)建了WTi-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層。經(jīng)600℃長(zhǎng)時(shí)間（840 h）退火，WTi-Al2O3涂層仍保持較高的吸收率~93%，500℃下的熱發(fā)射率*有10.3%，遠(yuǎn)低于文獻(xiàn)報(bào)道值（>13%@500℃）。研究表明，WTi合金納米粒子內(nèi)金屬Ti的外擴(kuò)散、偏析及部分氧化可有效抑制W納米粒子的團(tuán)聚和長(zhǎng)大，從而提高涂層的熱穩(wěn)定性，實(shí)現(xiàn)對(duì)WTi-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層光學(xué)性能和熱穩(wěn)定性的雙重調(diào)控（Nano Energy 2017, 37, 232），撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟。西藏高級(jí)太陽光譜模擬工廠

經(jīng)檢測(cè)，本申請(qǐng)制備的膜層的吸收率為93％～97％，比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的吸收率提高了3％～9％。江西銷售太陽光譜模擬價(jià)格

根據(jù)拍攝時(shí)刻和所地理經(jīng)度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽時(shí)角。在本實(shí)施例一可行的方式中，可根據(jù)ω(x，t)＝(12-t)×15°-l(x)(5)計(jì)算太陽時(shí)角，其中，t為拍攝時(shí)刻，ω(x，t)為坐標(biāo)為(x，y)的像素點(diǎn)在t時(shí)刻對(duì)應(yīng)的太陽時(shí)角。s24，根據(jù)太陽赤緯角、太陽時(shí)角和地理緯度，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽高度角。在本實(shí)施例一可行的方式中，可根據(jù)α(x，y，d，t)＝arcsin[sinb(y)×sinδ(d)+cosb(y)×cosδ(d)×cosω(x，t)](6)計(jì)算太陽高度角α(x，y，d，t)。江西銷售太陽光譜模擬價(jià)格

昊躍光學(xué)科技（蘇州）有限公司是國(guó)內(nèi)一家多年來專注從事天文觀察濾光片，太陽光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡的老牌企業(yè)。公司位于若水路388號(hào)蘇州納米技術(shù)國(guó)家大學(xué)科技園B棟10樓1005，成立于2020-01-16。公司的產(chǎn)品營(yíng)銷網(wǎng)絡(luò)遍布國(guó)內(nèi)各大市場(chǎng)。公司主要經(jīng)營(yíng)天文觀察濾光片，太陽光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡等產(chǎn)品，我們依托高素質(zhì)的技術(shù)人員和銷售隊(duì)伍，本著誠(chéng)信經(jīng)營(yíng)、理解客戶需求為經(jīng)營(yíng)原則，公司通過良好的信譽(yù)和周到的售前、售后服務(wù)，贏得用戶的信賴和支持。公司與行業(yè)上下游之間建立了長(zhǎng)久親密的合作關(guān)系，確保天文觀察濾光片，太陽光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡在技術(shù)上與行業(yè)內(nèi)保持同步。產(chǎn)品質(zhì)量按照行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行研發(fā)生產(chǎn)，絕不因價(jià)格而放棄質(zhì)量和聲譽(yù)。昊躍光學(xué)科技（蘇州）有限公司以誠(chéng)信為原則，以安全、便利為基礎(chǔ)，以優(yōu)惠價(jià)格為天文觀察濾光片，太陽光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡的客戶提供貼心服務(wù)，努力贏得客戶的認(rèn)可和支持，歡迎新老客戶來我們公司參觀。