Nanoscribe獨有的體素調(diào)諧技術2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時兼顧打印速度，實現(xiàn)自由曲面微光學元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學軸線上。NanoscribeQX平臺打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測，確保打印精細對準到光纖的光學軸線上。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構圖，實現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細打印對準。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術中打印速度**快的。其動態(tài)體素調(diào)整需要相對較少的打印層次，即可實現(xiàn)具有光學級別、光滑以及納米結構表面打印結果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時，其打印速度遠遠超過任何當前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場上快的增材制造技術，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。事實上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的。湖南3D打印雙光子聚合技術

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。作為基于雙光子聚合技術（2PP）的微納加工領域市場帶領者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體?；?PP微納加工技術方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為頂端科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。湖南3D打印雙光子聚合技術Nanoscribe雙光子聚合技術具有高設計自由度和高精度。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領域應用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設備，可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結構，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng)，非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。

    雙光子聚合技術是一種高精度、高效率的微納加工技術，具有以下優(yōu)勢特點：高精度和高分辨率：雙光子聚合技術可以實現(xiàn)亞微米甚至納米級的分辨率，使得制造出的微納結構更加精細。這是因為它利用雙光子吸收過程，將激光束聚焦到非常小的體積內(nèi)，從而實現(xiàn)了高精度的加工。三維加工能力：由于雙光子聚合技術可以在聚合物體積內(nèi)部進行光刻，因此可以實現(xiàn)復雜的三維結構制造，如微型光學元件、微流體芯片等。這一特點使得它在微納制造領域具有廣泛的應用前景。無需光掩膜：傳統(tǒng)的光刻技術需要使用光掩膜進行圖案轉(zhuǎn)移，而雙光子聚合技術可以直接通過計算機控制激光束的位置和強度來實現(xiàn)圖案的制造，無需光掩膜。這不僅降低了制造成本，還縮短了制造周期。材料多樣性：雙光子聚合技術可以使用各種不同類型的光敏樹脂作為加工材料，從而可以制造出各種不同性質(zhì)和功能的微納結構。這為微納制造提供了更多的選擇和靈活性。高效加工速度：雙光子聚合技術具有較高的加工速度，可以在短時間內(nèi)制造出復雜的三維結構。這使得它在工業(yè)生產(chǎn)中具有較高的效率和競爭力。易于控制和修改：雙光子聚合的加工環(huán)境和參數(shù)易于控制，可以輕松修改得到所需的結構。 你知道雙光子聚合、飛秒激光加工、雙光子顯微成像區(qū)別在哪里嗎？

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。想要了解雙光子聚合技術運用在哪些領域請咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。湖南3D打印雙光子聚合技術

更多關于雙光子聚合技術的微納加工信息，請關注Nanoscribe中國分公司-納糯三維的官網(wǎng)。湖南3D打印雙光子聚合技術

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。湖南3D打印雙光子聚合技術