適用場(chǎng)景的分野，進(jìn)一步凸顯了二者（微光顯微鏡&熱紅外顯微鏡）的互補(bǔ)價(jià)值。在邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片的量產(chǎn)檢測(cè)中，微光顯微鏡通過(guò)對(duì)細(xì)微電缺陷的篩查，助力提升產(chǎn)品良率，降低批量報(bào)廢風(fēng)險(xiǎn)；而在功率器件、車(chē)規(guī)芯片的可靠性測(cè)試中，熱紅外顯微鏡對(duì)熱分布的監(jiān)測(cè)，成為驗(yàn)證產(chǎn)品穩(wěn)定性的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。實(shí)際檢測(cè)中，二者常組合使用：微光顯微鏡定位電缺陷后，熱紅外顯微鏡可進(jìn)一步分析該缺陷是否引發(fā)異常發(fā)熱，形成 “光 - 熱” 聯(lián)動(dòng)的全維度分析，為企業(yè)提供更佳的故障診斷依據(jù)。微光顯微鏡在 LED 故障分析中作用關(guān)鍵，可檢測(cè)漏電倒裝、短路倒裝及漏電垂直 LED 芯片的異常點(diǎn)。半導(dǎo)體失效分析微光顯微鏡校準(zhǔn)方法

致晟光電 RTTLIT E20 微光顯微分析系統(tǒng)（EMMI）是一款專(zhuān)為半導(dǎo)體器件漏電缺陷檢測(cè)量身打造的高精度檢測(cè)設(shè)備。該系統(tǒng)搭載先進(jìn)的 - 80℃制冷型 InGaAs 探測(cè)器與高分辨率顯微物鏡，憑借超高檢測(cè)靈敏度，可捕捉器件在微弱漏電流信號(hào)下產(chǎn)生的極微弱微光。通過(guò)超高靈敏度成像技術(shù)，設(shè)備能快速定位漏電缺陷并開(kāi)展深度分析，為工程師優(yōu)化生產(chǎn)工藝、提升產(chǎn)品可靠性提供關(guān)鍵支持，進(jìn)而為半導(dǎo)體器件的質(zhì)量控制與失效分析環(huán)節(jié)提供安全可靠的解決方案。IC微光顯微鏡與光學(xué)顯微鏡對(duì)比其搭載的圖像增強(qiáng)算法，能強(qiáng)化微弱光子信號(hào)，減少噪聲干擾，使故障點(diǎn)成像更鮮明，便于識(shí)別。

漏電是芯片另一種常見(jiàn)的失效模式，其誘因復(fù)雜多樣，既可能源于晶體管長(zhǎng)期工作后的老化衰減，也可能由氧化層存在裂紋等缺陷引發(fā)。

與短路類(lèi)似，芯片內(nèi)部發(fā)生漏電時(shí)，漏電路徑中會(huì)伴隨微弱的光發(fā)射現(xiàn)象——這種光信號(hào)的強(qiáng)度往往遠(yuǎn)低于短路產(chǎn)生的光輻射，對(duì)檢測(cè)設(shè)備的靈敏度提出了極高要求。EMMI憑借其的微光探測(cè)能力，能夠捕捉到漏電產(chǎn)生的極微弱光信號(hào)。通過(guò)對(duì)芯片進(jìn)行全域掃描，可將漏電區(qū)域以可視化圖像的形式清晰呈現(xiàn)，使工程師能直觀識(shí)別漏電位置與分布特征。

在微光顯微鏡（EMMI) 操作過(guò)程中，當(dāng)對(duì)樣品施加合適的電壓時(shí)，其失效點(diǎn)會(huì)由于載流子加速散射或電子-空穴對(duì)復(fù)合效應(yīng)而發(fā)射特定波長(zhǎng)的光子。這些光子經(jīng)過(guò)采集和圖像處理后，可以形成一張信號(hào)圖。隨后，取消施加在樣品上的電壓，在未供電的狀態(tài)下采集一張背景圖。再通過(guò)將信號(hào)圖與背景圖進(jìn)行疊加處理，就可以精確地定位發(fā)光點(diǎn)的位置，實(shí)現(xiàn)對(duì)失效點(diǎn)的精確定位。進(jìn)一步地，為了提升定位的準(zhǔn)確性，可采用多種圖像處理技術(shù)進(jìn)行優(yōu)化。例如，通過(guò)濾波算法去除背景噪聲，增強(qiáng)信號(hào)圖的信噪比；利用邊緣檢測(cè)技術(shù)，突出顯示發(fā)光點(diǎn)的邊緣特征，從而提高定位精度。晶體管和二極管短路或漏電時(shí)，微光顯微鏡依其光子信號(hào)判斷故障類(lèi)型與位置，利于排查電路故障。

EMMI的本質(zhì)只是一臺(tái)光譜范圍廣，光子靈敏度高的顯微鏡。

但是為什么EMMI能夠應(yīng)用于IC的失效分析呢？

原因就在于集成電路在通電后會(huì)出現(xiàn)三種情況：1.載流子復(fù)合；2.熱載流子；3.絕緣層漏電。當(dāng)這三種情況發(fā)生時(shí)集成電路上就會(huì)產(chǎn)生微弱的熒光，這時(shí)EMMI就能捕獲這些微弱熒光，這就給了EMMI一個(gè)應(yīng)用的機(jī)會(huì)而在IC的失效分析中，我們給予失效點(diǎn)一個(gè)偏壓產(chǎn)生熒光，然后EMMI捕獲電流中產(chǎn)生的微弱熒光。原理上，不管IC是否存在缺陷，只要滿(mǎn)足其機(jī)理在EMMI下都能觀測(cè)到熒光 其內(nèi)置的圖像分析軟件，可測(cè)量亮點(diǎn)尺寸與亮度，為量化評(píng)估缺陷嚴(yán)重程度提供數(shù)據(jù)。微光顯微鏡與光學(xué)顯微鏡對(duì)比

靜電放電破壞半導(dǎo)體器件時(shí)，微光顯微鏡偵測(cè)其光子可定位故障點(diǎn)，助分析原因程度。半導(dǎo)體失效分析微光顯微鏡校準(zhǔn)方法

選擇國(guó)產(chǎn) EMMI 微光顯微鏡，既是擁抱技術(shù)自主，更是搶占效率與成本的雙重優(yōu)勢(shì)！致晟光電全本土化研發(fā)實(shí)力，與南京理工大學(xué)光電技術(shù)學(xué)院深度攜手，致力于光電技術(shù)研究和產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，充分發(fā)揮其科研優(yōu)勢(shì)，構(gòu)建起產(chǎn)學(xué)研深度融合的技術(shù)研發(fā)體系。

憑借這一堅(jiān)實(shí)后盾，我們的 EMMI 微光顯微鏡在性能上實(shí)現(xiàn)更佳突破：-80℃制冷型探測(cè)器搭配高分辨率物鏡，輕松捕捉極微弱漏電流光子信號(hào)，漏電缺陷定位精度與國(guó)際設(shè)備同步，讓每一個(gè)細(xì)微失效點(diǎn)無(wú)所遁形。 半導(dǎo)體失效分析微光顯微鏡校準(zhǔn)方法