熱紅外顯微鏡能高效檢測微尺度半導(dǎo)體電路及MEMS器件的熱問題。在電路檢測方面,這套熱成像顯微鏡可用于電路板失效分析,且配備了電路板檢測用軟件包“模型比較”,能識別缺陷元件;同時還可搭載“缺陷尋找”軟件模塊,專門探測不易發(fā)現(xiàn)的短路問題并定位短路點。在MEMS研發(fā)領(lǐng)域,空間溫度分布與熱響應(yīng)時間是微反應(yīng)器、微型熱交換器、微驅(qū)動器、微傳感器等MEMS器件的關(guān)鍵參數(shù)。目前,非接觸式測量MEMS器件溫度的方法仍存在局限,而紅外成像顯微鏡可提供20微米空間分辨率的熱分布圖像,是迄今為止測量MEMS器件熱分布的高效工具。
量化 SiC、GaN 等寬禁帶半導(dǎo)體的襯底熱阻、結(jié)溫分布,優(yōu)化散熱設(shè)計。無損熱紅外顯微鏡內(nèi)容
熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)技術(shù),作為半導(dǎo)體失效分析領(lǐng)域的關(guān)鍵手段,通過捕捉器件內(nèi)部產(chǎn)生的熱輻射,實現(xiàn)失效點的精細(xì)定位。它憑借對微觀熱信號的高靈敏度探測,成為解析半導(dǎo)體故障的 “火眼金睛”。然而,隨著半導(dǎo)體技術(shù)不斷升級,器件正朝著超精細(xì)圖案制程與低供電電壓方向快速演進(jìn):線寬進(jìn)入納米級,供電電壓降至 1V 以下。這使得失效點(如微小短路、漏電流區(qū)域)產(chǎn)生的熱量急劇減少,其輻射的紅外線信號強(qiáng)度降至傳統(tǒng)檢測閾值邊緣,疊加芯片復(fù)雜結(jié)構(gòu)的背景輻射干擾,信號提取難度呈指數(shù)級上升。
廠家熱紅外顯微鏡24小時服務(wù)區(qū)分 LED、激光二極管的電致發(fā)光熱點與熱輻射異常,優(yōu)化光電轉(zhuǎn)換效率。
從傳統(tǒng)熱發(fā)射顯微鏡到熱紅外顯微鏡的演變,是其技術(shù)團(tuán)隊對微觀熱分析需求的深度洞察與持續(xù)創(chuàng)新的結(jié)果。它既延續(xù)了通過紅外熱輻射解析熱行為的原理,又通過全尺度觀測、高靈敏度檢測、場景化分析等創(chuàng)新,突破了傳統(tǒng)技術(shù)的邊界。如今,這款設(shè)備已成為半導(dǎo)體失效分析、新材料熱特性研究、精密器件研發(fā)等領(lǐng)域的專業(yè)工具,為行業(yè)在微觀熱管控、缺陷排查、性能優(yōu)化等方面提供了更高效的技術(shù)支撐,推動微觀熱分析從 “可見” 向 “可知”“可控” 邁進(jìn)。
致晟光電熱紅外顯微鏡采用高性能InSb(銦銻)探測器,用于中波紅外波段(3–5 μm)的熱輻射信號捕捉。InSb材料具有優(yōu)異的光電轉(zhuǎn)換效率和極低的本征噪聲,在制冷條件下可實現(xiàn)高達(dá)nW級的熱靈敏度和優(yōu)于20mK的溫度分辨率,適用于高精度、非接觸式熱成像分析。該探測器在熱紅外顯微系統(tǒng)中的應(yīng)用,提升了空間分辨率(可達(dá)微米量級)與溫度響應(yīng)線性度,使其能夠?qū)Π雽?dǎo)體器件、微電子系統(tǒng)中的局部發(fā)熱缺陷、熱點遷移和瞬態(tài)熱行為進(jìn)行精細(xì)刻畫。配合致晟光電自主開發(fā)的高數(shù)值孔徑光學(xué)系統(tǒng)與穩(wěn)態(tài)熱控平臺,InSb探測器可在多物理場耦合背景下實現(xiàn)高時空分辨的熱場成像,是先進(jìn)電子器件失效分析、電熱耦合行為研究及材料熱特性評價中的關(guān)鍵。
熱紅外顯微鏡可實時監(jiān)測電子設(shè)備運行中的熱變化,預(yù)防過熱故障 。
RTTLIT P10 熱紅外顯微鏡在光學(xué)配置上的靈活性,可通過多種可選物鏡得以充分體現(xiàn),為不同尺度、不同場景的熱分析需求提供精細(xì)適配。
Micro 廣角鏡頭擅長捕捉大視野范圍的整體熱分布,適合快速定位樣品宏觀熱異常區(qū)域,如整片晶圓的整體散熱趨勢觀測;0.2X 鏡頭在保持一定視野的同時提升細(xì)節(jié)捕捉能力,可用于中等尺寸器件(如傳感器模組)的熱行為分析,平衡效率與精度;0.4X 鏡頭進(jìn)一步聚焦局部,能清晰呈現(xiàn)芯片封裝級的熱分布特征,助力排查封裝缺陷導(dǎo)致的散熱不均問題;1X 與 3X 鏡頭則聚焦微觀尺度,1X 鏡頭可解析芯片內(nèi)部功能模塊的熱交互,3X 鏡頭更是能深入到微米級結(jié)構(gòu)(如晶體管陣列、引線鍵合點),捕捉納米級熱點的細(xì)微溫度波動。
熱紅外顯微鏡的動態(tài)功耗分析功能,同步記錄 100MHz 高頻信號下的熱響應(yīng)曲線。顯微熱紅外顯微鏡儀器
熱紅外顯微鏡通過熱輻射相位差算法,三維定位 3D 封裝中 Z 軸方向的失效層。無損熱紅外顯微鏡內(nèi)容
RTTLITP20 熱紅外顯微鏡憑借多元光學(xué)物鏡配置,構(gòu)建從宏觀到納米級的全尺度熱分析能力,靈活適配多樣檢測需求。Micro廣角鏡頭可快速覆蓋大尺寸樣品整體熱分布,如整塊電路板、大型模組的散熱趨勢,高效完成初步篩查;0.13~0.3x變焦鏡頭通過連續(xù)倍率調(diào)節(jié),適配芯片封裝體、傳感器陣列等中等尺度器件熱分析,兼顧整體熱場與局部細(xì)節(jié);0.65X~0.75X變焦鏡頭提升分辨率,解析芯片內(nèi)部功能單元熱交互,助力定位封裝散熱瓶頸;3x~4x變焦鏡頭深入微米級結(jié)構(gòu),呈現(xiàn)晶體管陣列、引線鍵合點等細(xì)微部位熱分布;8X~13X變焦鏡頭聚焦納米尺度,捕捉微小短路點、漏電流區(qū)域等納米級熱點的微弱熱信號,滿足先進(jìn)制程半導(dǎo)體高精度分析需求。
多段變焦與固定倍率結(jié)合的設(shè)計,實現(xiàn)宏觀到微觀熱分析平滑切換,無需頻繁更換配件,大幅提升半導(dǎo)體失效分析、新材料熱特性研究等領(lǐng)域的檢測效率與精細(xì)度。 無損熱紅外顯微鏡內(nèi)容