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⒉較小的畸變：畸變是變焦鏡頭比較大的軟肋，幾乎所有涉及廣角的變焦鏡頭都存在明顯的畸變問題，而定焦鏡頭因為只需對一個焦段的成像進行糾正與優(yōu)化，所以往往很少會出現(xiàn)畸變現(xiàn)象。另外值得一提的是，旁軸相機在廣角畸變上比單反相機有天生優(yōu)勢，例如15mm/f4.5等超廣角鏡...

浸沒式光刻機是通過在物鏡與晶圓之間注入超純水，等效縮短光源波長并提升數(shù)值孔徑，從而實現(xiàn)更高分辨率的半導體制造**設備。2024年9月工信部文件顯示，國產(chǎn)氟化氬浸沒式光刻機套刻精度已達到≤8nm水平。該技術研發(fā)涉及浸液系統(tǒng)、光學控制等多項復雜工藝，林本堅團隊在浸...

2019年荷蘭阿斯麥公司推出新一代極紫外光刻系統(tǒng)，**了當今**的第五代光刻系統(tǒng)，可望將摩爾定律物理極限推向新的高度 [5]。中國工程院《Engineering》期刊于2021年組建跨學科評選委員會，通過全球**提名、公眾問卷等多階段評審，選定近五年內(nèi)完成且具...

安提基特拉機械，是為了計算天體在天空中的位置而設計的古希臘青銅機器，屬于模擬計算機。該機器于1900年在希臘安提基特拉島附近的安提基特拉沉船里被發(fā)現(xiàn)。制造年代約在西元前150年到100年之間?，F(xiàn)藏于希臘國家考古博物館。 [4]類似的工藝技術（天文鐘）在歐洲直到...

浸沒式光刻技術所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產(chǎn)生的氣泡和污染等缺陷的問題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問題；研發(fā)折射率較大的光學鏡頭材料和浸沒液體材料；以 及 有 效 數(shù) 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對 這 些 難 ...

鏡頭的改變：在相同物距 和光圈的情況下，使用不同焦距的鏡頭可改變景深，鏡頭焦距越短，**深越大，對于超廣角鏡（8---15毫米），景深非常大，以致無需調(diào)焦，因為每一級光圈的景深都是清晰。光學工業(yè)鏡頭***用于反射度極高的物體定位檢測，如：金屬、玻璃、膠片、晶片...

糾偏裝置（Deviation rectifying device）是由美國美塞斯公司旗下FIFE品牌于1898年發(fā)明的機械裝置，主要用于修正卷材在傳輸過程中產(chǎn)生的橫向偏移。作為工業(yè)生產(chǎn)中的基礎設備，其通過傳感器檢測與驅(qū)動系統(tǒng)聯(lián)動形成閉環(huán)控制，支持跟邊、對中、跟...

用廣角鏡頭拍攝的畫面。能在突出**主體和前景的同時，能有***的背景。可以在較小的環(huán)境里，拍到較多的景物，在相同的拍攝距離時，得到的景象比用標準鏡頭拍攝的要小。當拍攝較近的景物時，會產(chǎn)生******變形，還會使前后景物之間的距離感增大。由于它的景深長，很容易把...

安提基特拉機械以其小型化和其部分裝置的復雜性可與19世紀機械鐘表相比而聞名。它有超過30個齒輪，雖然麥可·萊特認為它可多達72個有正三角形齒的齒輪。當借由一個曲柄輸入一個日期，該機械就可算出日月或行星等其他天**置。因為該機械是以地球表面觀測天球者為參考座標，...

b、接近式曝光（Proximity Printing）。掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm?？梢员苊馀c光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時引入了衍射效應，降低了分辨率。1970后適用，但是其最大分辨率*為2～4μm。c、投影式曝光（Proj...

準分子光刻技術作為當前主流的光刻技術，主要包括：特征尺寸為0．1μm的248 nm KrF準分子激光技術；特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準分子激光技術；特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒式技術（Immersion，193i）。其中193...

使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個方面的特點： [3]視角小所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標準鏡頭，適用于拍攝遠處景物的細部和拍攝不易接近的被攝體 [3]。景深短所以，能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào) 焦帶來了一...

廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短，視角大，在較短的拍攝距離范圍內(nèi)，能拍攝到較大面積的景物。所以，**...

2、廣角鏡頭使用遮光罩或濾色鏡時，很容易遮擋鏡頭視角的周圍，使像場發(fā)暗，而這一情況，在取景時不容易察覺，但在照片上卻很明顯。因此，運用附件時， 一定要從說明書上了解清楚它們的使用范圍。如果說明書中沒有說明，拍攝時就要加倍小心。3、電子閃光燈閃光涵蓋角一般與13...

1：可用機電式驅(qū)動器或液壓缸作為驅(qū)動動力。2：快速、精確地對卷材進行定位，使用的卷材寬度可達1930mm（76.0″）。3：低摩擦滾珠軸套和轉(zhuǎn)動桿的設計。4：耐用的結(jié)構(gòu)設計可長時間連續(xù)使用，**降低維修的需要。5：可選配的伺服對中器提高設置和卷材線性速度。6：...

英特爾高級研究員兼技術和制造部先進光刻技術總監(jiān)YanBorodovsky在去年說過“針對未來的IC設計，我認為正確的方向是具有互補性的光刻技術。193納米光刻是當前能力**強且**成熟的技術，能夠滿足精確度和成本要求，但缺點是分辨率低。利用一種新技術作為193...

光致抗蝕劑，簡稱光刻膠或抗蝕劑，指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑：受光照部分發(fā)生降解反應而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對駐波效應不敏感、曝光容限大、***密度低和無毒性等...

后烘方法：熱板，110～130C,1分鐘。目的：a、減少駐波效應；b、激發(fā)化學增強光刻膠的PAG產(chǎn)生的酸與光刻膠上的保護基團發(fā)生反應并移除基團使之能溶解于顯影液。顯影方法：a、整盒硅片浸沒式顯影（Batch Development）。缺點：顯影液消耗很大；顯影...

電子束光刻基本上分兩大類，一類是大生產(chǎn)光掩模版制造的電子束曝光系統(tǒng)，另一類是直接在基片上直寫納米級圖形的電子束光刻系統(tǒng)。電子束光刻技術起源于掃描電鏡，**早由德意志聯(lián)邦共和國杜平根大學的G．Mollenstedt等人在20世紀60年代提出。電子束曝光的波長取決...

光刻系統(tǒng)SUSS是一種應用于半導體制造領域的工藝試驗儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過精密光學曝光技術完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移，為集成電路研發(fā)和生產(chǎn)提供關鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

光刻系統(tǒng)是一種用于半導體器件制造的精密科學儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設備 [1] [6-7]。其技術發(fā)展歷經(jīng)紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動集成電路制程不斷進步 [3] [6]。當前**的EUV光刻系統(tǒng)已實...

6.齒輪傳動箱上蓋拆卸,內(nèi)部機件磨損及鍵位松動狀況之檢查并進行油槽清洗,潤滑油換新及運轉(zhuǎn)狀況,噪音,振動測試檢查.7.傳動系統(tǒng)各部位注油點之吐出油量及壓力測試與調(diào)整.8.離剎機構(gòu)之活塞動作,剎車角度,離剎間隙及來令片磨耗量之測試點檢與必要調(diào)整.9.滑快導軌與導...

2024年9月工信部發(fā)布的技術指標顯示，國產(chǎn)浸沒式光刻機已實現(xiàn)：1.套刻精度≤8nm [1]2.滿足28nm制程需求 [1]3.具備多重曝光技術適配能力研發(fā)過程中需突破：超純水循環(huán)系統(tǒng)的納米級污染控制高速掃描下的液體湍流抑制光路折射率穩(wěn)定性維持林本堅團隊在浸液...

c、水坑（旋覆浸沒）式顯影（Puddle Development）。噴覆足夠（不能太多，**小化背面濕度）的顯影液到硅片表面，并形成水坑形狀（顯影液的流動保持較低，以減少邊緣顯影速率的變化）。硅片固定或慢慢旋轉(zhuǎn)。一般采用多次旋覆顯影液：***次涂覆、保持10～...

鏡頭的改變：在相同物距 和光圈的情況下，使用不同焦距的鏡頭可改變景深，鏡頭焦距越短，**深越大，對于超廣角鏡（8---15毫米），景深非常大，以致無需調(diào)焦，因為每一級光圈的景深都是清晰。光學工業(yè)鏡頭***用于反射度極高的物體定位檢測，如：金屬、玻璃、膠片、晶片...

CS型鏡頭With a 5 mm adapter ring, a C lens can be used on a CS-mount camera.U型鏡頭一種可變焦距的鏡頭，其法蘭焦距為47.526mm或1.7913in，安裝羅紋為M42×1。主要設計作35m...

魚眼鏡頭的體積較大。以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的魚眼鏡頭為例，當將這種魚眼鏡頭安裝在體積較小的35毫米單鏡頭反光照相機機身上時，有一種“頭（鏡頭）大身體（機身）小”的感覺，且由于魚眼鏡頭重量不輕（如尼柯爾6毫米/F2.8手動對焦魚眼鏡頭重達5200克），...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯提出該裝置可能是公開展示，地點或許是羅德島上的博物館或公共會堂。羅德島在當時是以機械工程聞名，尤其是羅德島人擅長的自動機械。古希臘九大抒情詩人中的品達在他的第七首奧林匹克頌中提及：The animated figures stand...

選購廣角數(shù)碼相機時除了要注意相機的整體性能外，還需要著重考察其鏡頭表現(xiàn)。鏡頭畸變情況是我們首先需要考慮的因素。一般來說廣角下拍攝更容易產(chǎn)生畸變，但不同的相機所拍攝的照片變形的程度也不同，總體而言畸變越輕微越好。其次也要注意畫面的解析度，由于受到成本的限制，數(shù)碼...

在曝光過程中，需要對不同的參數(shù)和可能缺陷進行跟蹤和控制，會用到檢測控制芯片/控片（Monitor Chip）。根據(jù)不同的檢測控制對象，可以分為以下幾種：a、顆粒控片（Particle MC）：用于芯片上微小顆粒的監(jiān)控，使用前其顆粒數(shù)應小于10顆；b、卡盤顆粒控...