該滅弧室采用中封式結(jié)構(gòu),玻璃外殼,觸頭為CuCr50材料,杯狀縱磁結(jié)構(gòu),具有斷流量大、絕緣水平高、滅弧能力強、壽命長、體積小、維護簡單、無危險真空是指在給定的空間內(nèi),遠低于一個環(huán)境大氣壓的氣體狀態(tài)。真空狀態(tài)下氣體的稀薄程度 通常用真空度來描述,以壓強值來表示。1大氣壓= 760mmHg×133.3Pa/mmHg=1.013×105Pa(帕斯卡)或0.1013MPa 壓強越高則真空度越低;壓強越低則真空度越高。真空滅弧室是用一對密封在真空中的電極(觸頭)和其它零件,借助真空優(yōu)良的絕緣和熄弧性能,實現(xiàn)電路的關(guān)合或分斷,在切 斷電源后能迅速熄弧并抑止電流的真空器件氣體放電分為自持放電與非自持放電兩類,電弧屬于氣體自持放電中的弧光放電。浦東新區(qū)質(zhì)量真空滅弧室性能
真空滅弧是通過真空環(huán)境中觸頭分離產(chǎn)生的電弧在特殊磁場作用下快速熄滅的技術(shù) [6-7],其**部件真空滅弧室已形成0.66kV至126kV的全系列產(chǎn)品線 [1] [3]。該技術(shù)廣泛應(yīng)用于電力系統(tǒng)及煤炭、冶金、石化等工業(yè)領(lǐng)域,具有體積小、無污染氣體排放等優(yōu)勢 [1] [4] [7]。2024年我國率先實現(xiàn)252千伏真空環(huán)保斷路器技術(shù)突破,標(biāo)志著該領(lǐng)域達到國際**水平 [3]。真空滅弧的實現(xiàn)依賴三項**技術(shù):1.高真空環(huán)境:擊穿強度是大氣環(huán)境的15倍,有效抑制電弧重燃 [6-7]2.磁場控制:特殊觸頭形狀產(chǎn)生的磁場驅(qū)動電弧沿切線方向運動 [6]3.金屬屏蔽罩:凝結(jié)金屬蒸汽,加速介質(zhì)強度恢復(fù) [6]金山區(qū)質(zhì)量真空滅弧室價目表而且,按此工藝生產(chǎn)的真空滅弧室烘烤溫度低(450℃左右),因而除氣不徹底。
高頻電磁屏蔽:以屏蔽電磁波為主要目的,屏蔽所依據(jù)的原理是楞次定律,利用屏蔽罩內(nèi)的感生電磁場來抵消外來電磁干擾,應(yīng)選用良導(dǎo)體制作屏蔽罩,如鋁和銅等 [1]屏蔽是電工學(xué)中的一種裝置方式。為了防止外界電場、磁場或電磁場對內(nèi)部設(shè)備的干擾或為了避免設(shè)備的電磁場對外界的影響,將設(shè)備放在一個封閉或近似封閉的金屬殼或金屬網(wǎng)罩中,這種金屬殼或網(wǎng)罩稱為屏蔽罩。在結(jié)構(gòu)化學(xué)中,借用屏蔽這個詞來命名下述效應(yīng)。原子中內(nèi)層電子對外層電子的排斥作用,減少了原子核對外層電子的有效吸引,相當(dāng)于內(nèi)層電子“屏蔽”掉了一部分核電荷,故稱為屏蔽效應(yīng)。電子間的屏蔽效應(yīng)的大小可由屏蔽系數(shù)近似地表達 [2]。
靜磁屏蔽:為了使雜散磁場集中到屏蔽罩殼體上,屏蔽罩應(yīng)具有盡可能高的磁導(dǎo)率。所有磁導(dǎo)率高的軟磁材料,如電磁純鐵、球墨鑄鐵、坡莫合金、硅鋼、軟磁鐵氧體等,原則上都可選用。設(shè)計上應(yīng)按磁屏要求、價格、殼體強度、加工性能等,綜合考慮后選定。低頻電磁屏蔽:除屏蔽靜磁外,還需兼屏蔽變化的電磁場。如工頻電磁場等。除要求磁導(dǎo)率高外,還要求電導(dǎo)率高。較理想的材料是坡莫合金,考慮到價格和加工因素,大的屏蔽罩以電磁純鐵為宜。坡莫合金中含鎳量高于40%時,磁導(dǎo)率和電導(dǎo)率都很好。此外,含鋁15%~16%左右的鐵鋁合金也是常用的磁屏材料。在有觸點電器中,觸頭接通和分斷電流的過程往往伴隨著電弧的產(chǎn)生及熄滅。
真空滅弧室,又名真空開關(guān)管,是中高壓電力開關(guān)的**部件,其主要作用是,通過管內(nèi)真空優(yōu)良的絕緣性使中高壓電路切斷電源后能迅速熄弧并抑制電流,避免事故和意外的發(fā)生,主要應(yīng)用于電力的輸配電控制系統(tǒng),還應(yīng)用于冶金、礦山、石油、化工、鐵路、廣播、通訊、工業(yè)高頻加熱等配電系統(tǒng)。具有節(jié)能、節(jié)材、防火、防爆、體積小、壽命長、維護費用低、運行可靠和無污染等特點。真空滅弧室從用途上又分為斷路器用滅弧室和負荷開關(guān)用滅弧室,斷路器滅弧室主要用于電力部門中的變電站和電網(wǎng)設(shè)施,負荷開關(guān)用滅弧室主要用于電網(wǎng)的終端用戶。真空滅弧室的屏蔽系統(tǒng)主要由屏蔽筒,屏蔽罩和其他零件組成。徐匯區(qū)常規(guī)真空滅弧室有哪些
壓強越低則真空度越高。浦東新區(qū)質(zhì)量真空滅弧室性能
屏蔽系統(tǒng)真空滅弧室的屏蔽系統(tǒng)主要由屏蔽筒,屏蔽罩和其他零件組成。屏蔽系統(tǒng)的主要作用是:1.防止觸頭在燃弧過程中產(chǎn)生大量的金屬蒸汽和液滴噴濺,污染絕緣外殼的內(nèi)壁,避免造成真空滅弧室外殼的絕緣強度下降或產(chǎn)生閃絡(luò)。2.改善真空滅弧室內(nèi)部的電場分布,有利于真空滅弧室絕緣外殼的小型化,尤其是對于高電壓的真空滅弧室小型化有***效果。.吸收一部分電弧能量,冷凝電弧生成物。特別是真空滅弧室在開斷短路電流時,電弧所產(chǎn)生的熱能大部分被屏蔽系統(tǒng)所吸收,有利于提高觸頭間的介質(zhì)恢復(fù)強度。屏蔽系統(tǒng)吸收電弧生成物的量越大,說明他吸收的能量也越大,這對增加真空滅弧室的開斷容量起良好作用。浦東新區(qū)質(zhì)量真空滅弧室性能
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