該滅弧室采用中封式結構，玻璃外殼，觸頭為CuCr50材料，杯狀縱磁結構，具有斷流量大、絕緣水平高、滅弧能力強、壽命長、體積小、維護簡單、無危險真空是指在給定的空間內(nèi)，遠低于一個環(huán)境大氣壓的氣體狀態(tài)。真空狀態(tài)下氣體的稀薄程度 通常用真空度來描述，以壓強值來表示。1大氣壓= 760mmHg×133.3Pa/mmHg=1.013×105Pa（帕斯卡）或0.1013MPa 壓強越高則真空度越低；壓強越低則真空度越高。真空滅弧室是用一對密封在真空中的電極（觸頭）和其它零件，借助真空優(yōu)良的絕緣和熄弧性能，實現(xiàn)電路的關合或分斷，在切 斷電源后能迅速熄弧并抑止電流的真空器件高的抗電腐蝕性。即經(jīng)得起電弧的燒蝕，金屬蒸發(fā)量少。崇明區(qū)新型真空滅弧室性能

若借助一定的儀器仔細觀察電弧，可以發(fā)現(xiàn)，除兩個極（觸頭）外，明顯的分為三個區(qū)域，即近陰極區(qū)、近陽極區(qū)及弧柱區(qū)，如圖1所示。近陰極區(qū)的長度約等于電子的平均自由行程（小于10-6m）。在電場力的作用下正離子向陰極運動，造成此區(qū)域內(nèi)聚集著大量的正離子而形成正的空間電荷層，使陰極附近形成高電場強度（約為10+6~10+7V/m）。正的空間電荷層形成陰極壓降，其數(shù)值隨陰極材料和氣體介質(zhì)的不同而有所變化，但變化不大，約在10～20V之間。嘉定區(qū)常規(guī)真空滅弧室貨源充足就提高了真空滅弧室開斷電流的能力和使用壽命。

滅弧裝置是開關的重要組成部分，尤其是對斷路器、熔斷器等顯得更加重要。開關的滅弧方式很多，主要有：1.采用壓縮彈簧，使開關高速斷開。2.利用空氣或某些氣體吹弧，使電弧迅速冷卻和拉長。3.使電弧與固定介質(zhì)接觸，使電弧拉長并迅速冷卻，如絕緣滅弧柵就屬于這種。4.將電弧分成若干段，以利熄弧，如金屬弧柵等。5.將觸頭置于絕緣油中，使電弧迅速冷卻。如果開關不能正常滅弧，將導致開關損壞，進而使電氣裝置發(fā)生更大的故障。滅弧系統(tǒng)故障的主要原因如下所述：1.滅弧罩受潮

按外殼分：玻璃真空滅弧室、陶瓷真空滅弧室。按用途分：斷路器用真空滅弧室、負荷開關用真空滅弧室、接觸器用真空滅弧室、重合器真空滅弧室、分段器用真空滅弧室及其它特殊用途真空滅弧室。主要由氣密絕緣外殼、導電回路、屏蔽系統(tǒng)、觸頭、波紋管等部分組成陶瓷外殼真空滅弧室。氣密絕緣系統(tǒng)由玻璃或陶瓷制成的氣密絕緣外殼、動端蓋板、定端蓋板，不銹鋼波紋管組成了氣密絕緣系統(tǒng)。為了保證玻璃、陶瓷與金屬之間有良好的氣密性，除了封接時要有嚴格的操作工藝外，還要求材料本身的透氣性盡量小和內(nèi)部放氣量限制到極小值。不銹鋼波紋管的作用不僅能將真空滅弧室內(nèi)部的真空狀態(tài)與外部的大氣狀態(tài)隔離開來，而且能使動觸頭連同動導電桿在規(guī)定的范圍內(nèi)運動，以完成真空開關的閉合與分斷操作。金屬屏蔽罩：凝結金屬蒸汽，加速介質(zhì)強度恢復。

泛用于煤礦化工、石油冶金等部門，更適合在頻繁操作和環(huán)境惡劣的地方使用。陶瓷真空滅弧室傳統(tǒng)的排氣工藝主要方式是把部件組裝成待排期的滅弧室，然后裝架在排氣臺上。用烘箱加熱滅弧室使內(nèi)部零件升溫把氣體排放出來，通過真空系統(tǒng)把這些氣體排出去，待滅弧室內(nèi)氣體壓強低于1*10Pa時，再把它從排氣臺上封離，這樣真空滅弧室就制造完成。為了提高陶瓷真空滅弧室的生產(chǎn)效率，降**造成本，根據(jù)大量的科學研究和實踐，80年代初研究成功了陶瓷真空滅弧室“一次封排”工藝。是先把陶瓷真空滅弧室的零件釬焊成三大部件：動管芯，靜管芯、陶瓷絕緣外殼。按總裝配圖要求裝置成滅弧室，再把它放在高真空爐中進行釬焊，在升溫過程中，零件放氣被排出，滅弧室內(nèi)達到高真空，在降溫過程中，各條釬焊焊縫被蜜蜂，使滅弧室排期和封接在高真空爐內(nèi)一次完成。 [2]觸頭是產(chǎn)生電弧、熄滅電弧的部位，對材料和結構的要求都比較高。上海定制真空滅弧室特點

電力行業(yè)：應用于35kV及以下配電系統(tǒng)和252kV輸電系統(tǒng)。崇明區(qū)新型真空滅弧室性能

自能滅弧室是一種通過電弧本身能量實現(xiàn)滅弧的裝置，主要應用于油斷路器和自產(chǎn)氣斷路器中。其開斷性能與電流大小密切相關：在額定電流范圍內(nèi)，電流越大，電弧能量越強，燃弧時間越短；而電流較小時，滅弧效率降低，燃弧時間反而延長，因此需考慮臨界開斷電流的閾值問題 [1]。自能滅弧室是一種主要利用電弧本身能量來熄滅電弧的滅弧室，例如油斷路器和自產(chǎn)氣斷路器的滅弧室 大電流開斷：在額定電流范圍內(nèi)，較高的電流產(chǎn)生更強的電弧能量，加速滅弧介質(zhì)運動，***縮短燃弧時間。小電流開斷：電流較小時，電弧能量不足以高效驅(qū)動滅弧介質(zhì)，導致燃弧時間延長，存在臨界開斷電流的問題 [崇明區(qū)新型真空滅弧室性能

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