2D x-ray圖8當(dāng)應(yīng)用2D x-ray技術(shù)時(shí)，所有的器件都需要被布置在 PCB的正面。而用2Dx-ray去檢測(cè)這些器件時(shí)，還必須再定 義出一塊沒(méi)有器件的地方為“禁區(qū)”。對(duì)于有些BGAs，會(huì) 推薦使用一種淚滴型的不對(duì)稱焊盤(pán)設(shè)計(jì)，這使得焊錫的成 型性質(zhì)被系統(tǒng)錯(cuò)誤的判斷為一種幾何的連接形態(tài)；此外， 一些特殊的QFN向內(nèi)或向外的彎月型焊盤(pán)設(shè)計(jì)也同樣有這種情況。QFN 焊盤(pán)設(shè)計(jì)QFN器件的焊盤(pán)尺寸、焊膏印 刷面積與它的引腳尺寸是同樣大小 的，而且器件的引腳是交錯(cuò)排列在 封裝體底部的(圖8)。在這個(gè)位置產(chǎn)生的定量的過(guò)程控制信息，提供高速片機(jī)和密間距元件貼裝設(shè)備校準(zhǔn)的信息。張家港安裝自動(dòng)化缺陷檢測(cè)設(shè)備設(shè)備廠家

缺陷類型：微粒缺陷（如異物污染）圖形缺陷（如光刻圖案偏移） [1-3]2.檢測(cè)精度：可實(shí)現(xiàn)0.2微米級(jí)缺陷的識(shí)別，滿足45納米工藝節(jié)點(diǎn)的質(zhì)量控制需求 [1-3]。吞吐量：每小時(shí)處理20片300毫米晶圓（基于2021年技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)） [1] [3]適用工藝：45納米及更高制程的集成電路制造 [1-3]主要用于半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)的在線缺陷檢測(cè)，覆蓋晶圓前道制程中的關(guān)鍵工藝步驟，確保芯片良率與可靠性 [1-3]。上海集成電路研發(fā)中心有限公司自2011年起使用KLA-Tencor Puma9150型號(hào)設(shè)備（截至2020年），同期配備頻譜分析儀、晶邊缺陷檢查設(shè)備等科研儀器 [2-3]。昆山重型自動(dòng)化缺陷檢測(cè)設(shè)備規(guī)格尺寸根據(jù)被檢測(cè)元件位置的瞬間變化進(jìn)行檢測(cè)窗口的自動(dòng)化校正，達(dá)到高精度檢測(cè).

基準(zhǔn)點(diǎn)圖4設(shè)備可以檢查所有 類型的基準(zhǔn)點(diǎn)，而且任 何構(gòu)件都可以被定義成 一個(gè)基準(zhǔn)點(diǎn)。雖然三個(gè)基 準(zhǔn)點(diǎn)可以補(bǔ)償一塊單板的 變形，但通常情況下只需 要確定兩個(gè)基準(zhǔn)點(diǎn)就可以 了。每個(gè)基準(zhǔn)點(diǎn)至少離單 板邊緣5mm（0.2”）。 十字形、菱形、星形等比較適用，并建議使用統(tǒng)一的黑背 景。此外，十字形的基準(zhǔn)點(diǎn)特別有優(yōu)勢(shì)，他們?cè)跈z測(cè)光下的圖像十分穩(wěn)定且可以被快速和容易地判定。。確認(rèn)壞板設(shè)備有能力檢查所有已知類型的壞板標(biāo)識(shí)。板上的任 何構(gòu)件都可以被定義為壞板標(biāo)識(shí)。這里建議采用與上述基 準(zhǔn)點(diǎn)的判定相類似的方法，即在可能的情況下，首先通過(guò) 檢查整板或已完成組裝的單板上的單個(gè)壞板標(biāo)識(shí)來(lái)進(jìn)行確 認(rèn)。板上每個(gè)單獨(dú)的壞板標(biāo)識(shí)只有在整板的壞板標(biāo)識(shí)檢查失敗后才會(huì)被逐一檢查；整板的壞板標(biāo)識(shí)應(yīng)該定位于PCB的邊上。

晶片缺陷檢測(cè)儀是一款基于光學(xué)和機(jī)械技術(shù)的精密分析儀器，主要用于晶圓制造過(guò)程中表面顆粒、劃痕、凹坑和微管缺陷的分析檢測(cè) [1]。該設(shè)備采用405nm光學(xué)系統(tǒng)與多頻道探測(cè)器組合技術(shù)，可檢測(cè)顆粒、劃痕、凹坑及微管等缺陷類型，并配備2至6英寸夾具適配不同規(guī)格晶片。其自動(dòng)化功能包含機(jī)械手臂傳輸和自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)，提升了檢測(cè)效率和精度。截至2021年1月，該設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)包括 [1]：1.采用405nm波長(zhǎng)的光學(xué)系統(tǒng)，提升表面微小缺陷的識(shí)別能力；傳統(tǒng)圖像處理：采用全局/局部閾值分割進(jìn)行像素分類，配合邊緣檢測(cè)算法提取缺陷輪廓.

適應(yīng)性程序沒(méi)有發(fā)現(xiàn)轉(zhuǎn)到無(wú)鉛會(huì)對(duì)焊點(diǎn)質(zhì)量的檢查帶來(lái)什么影響。缺陷看上去還是一樣的。毫無(wú)疑問(wèn)，只需要稍微修改一下數(shù)據(jù)庫(kù)，就足以排除其他誤報(bào)可能會(huì)帶來(lái)的影響。在元件頂上的內(nèi)容改變時(shí)，就需要大量的工作，確定門限值。這些可以納入到標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)庫(kù)中。在元件的一端立起來(lái)時(shí)，***其他環(huán)節(jié)的檢測(cè)，便可以進(jìn)行可靠的分析。對(duì)于橋接的形成或者元件一端立起來(lái)的普遍看法，證明常常不是那樣。經(jīng)驗(yàn)表明，橋接的形成沒(méi)有改變，元件一端立起來(lái)的現(xiàn)像就會(huì)有所減少。深度學(xué)習(xí)模型：基于卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的特征提取技術(shù)，適用于復(fù)雜背景缺陷檢測(cè).張家港通用自動(dòng)化缺陷檢測(cè)設(shè)備銷售電話

在ICT上，相對(duì)這些情況的缺陷概率直接與情況的嚴(yán)重性成比例。張家港安裝自動(dòng)化缺陷檢測(cè)設(shè)備設(shè)備廠家

避免焊點(diǎn)反射焊點(diǎn)的形狀和接觸角是焊點(diǎn)反射的根源。焊點(diǎn)的形成 依賴于焊盤(pán)的尺寸、器件的高度、焊錫的數(shù)量和回流工藝 參數(shù)。為了防止焊接反射，應(yīng)當(dāng)避免器件對(duì)稱排列。波峰焊圖5經(jīng)過(guò)波峰焊后，焊點(diǎn)所有的參數(shù)會(huì)有很大的變化，這 主要是由于焊爐內(nèi)錫的老化導(dǎo)致焊盤(pán)反射特性從光亮到灰 暗，因此，在檢查時(shí)算法上必須要包含這些變化。在波峰焊 中，典型的缺陷是短路和焊珠。當(dāng)檢測(cè)到短路時(shí)，假如印刷 的圖案或者無(wú)反射印刷這兩種情況的減少以及應(yīng)用阻焊層， 就可以消除這些誤報(bào)。如果基準(zhǔn)點(diǎn)沒(méi)有被阻焊膜蓋住而過(guò)波 峰焊，可能會(huì)導(dǎo)致一個(gè)圓形基準(zhǔn)點(diǎn)上錫成了一個(gè)半球，其內(nèi) 在的反射特性將會(huì)發(fā)生改變；應(yīng)用十字型作為基準(zhǔn)點(diǎn)或者用 阻焊層覆蓋基準(zhǔn)點(diǎn)，可以防止這種情況的發(fā)生。張家港安裝自動(dòng)化缺陷檢測(cè)設(shè)備設(shè)備廠家

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