資料匯總12--自動(dòng)卡條夾緊機(jī)-常州昱誠(chéng)凈化設(shè)備
初效折疊式過(guò)濾器五點(diǎn)設(shè)計(jì)特點(diǎn)-常州昱誠(chéng)凈化設(shè)備
有隔板高效過(guò)濾器對(duì)工業(yè)凈化的幫助-常州昱誠(chéng)凈化設(shè)備
從工業(yè)角度看高潔凈中效袋式過(guò)濾器的優(yōu)勢(shì)-常州昱誠(chéng)凈化設(shè)備
F9中效過(guò)濾器在工業(yè)和通風(fēng)系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì)-常州昱誠(chéng)凈化設(shè)備
資料匯總1:過(guò)濾器內(nèi)框機(jī)——常州昱誠(chéng)凈化設(shè)備
工業(yè)中效袋式過(guò)濾器更換流程及注意事項(xiàng)-常州昱誠(chéng)凈化設(shè)備
高潔凈中效袋式過(guò)濾器的清洗流程-常州昱誠(chéng)凈化設(shè)備
F9中效袋式過(guò)濾器清洗要求及安裝規(guī)范-常州昱誠(chéng)凈化設(shè)備
中效f7袋式過(guò)濾器的使用說(shuō)明-常州昱誠(chéng)凈化設(shè)備
XRD檢測(cè)聚合物結(jié)晶度測(cè)定引言聚合物的結(jié)晶度是與其物理性質(zhì)有很大關(guān)系的結(jié)構(gòu)參數(shù)。有時(shí),可以通過(guò)評(píng)估結(jié)晶度來(lái)確定剛度不足,裂紋,發(fā)白和其他缺陷的原因。通常,測(cè)量結(jié)晶度的方法包括密度,熱分析,NMR、IR以及XRD方法。這里將給出通過(guò)X射線衍射技術(shù)加全譜擬合法測(cè)定結(jié)晶度的方法的說(shuō)明以及實(shí)例。結(jié)晶度對(duì)于含有非晶態(tài)的聚合物,其散射信號(hào)來(lái)源于兩部分:晶態(tài)的衍射峰和非晶態(tài)漫散峰。那么結(jié)晶度DOC則定義為晶態(tài)衍射峰面積與總散射信號(hào)面積的比值:根據(jù)應(yīng)用需求,調(diào)節(jié)探測(cè)器的位置和方向,包括0°/ 90°免工具切換以及探測(cè)器位置可連續(xù)變化、支持自動(dòng)對(duì)光。江蘇微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀配件
D8DISCOVER特點(diǎn):微焦源IμS配備了MONTEL光學(xué)器件的IμS微焦源可提供小X射線束,非常適合小范圍或小樣品的研究。1.毫米大小的光束:高亮度和很低背景2.綠色環(huán)保設(shè)計(jì):低功耗、無(wú)耗水、使用壽命延長(zhǎng)3.MONTEL光學(xué)器件可優(yōu)化光束形狀和發(fā)散度4.與布魯克大量組件、光學(xué)器件和探測(cè)器完全兼容。5.提供各種技術(shù)前列的全集成X射線源,用于產(chǎn)生X射線。6.工業(yè)級(jí)金屬陶瓷密封管,可實(shí)現(xiàn)線焦斑或點(diǎn)焦斑。7.專業(yè)的TWIST-TUBE(旋轉(zhuǎn)光管)技術(shù),可快速簡(jiǎn)便地切換線焦斑和點(diǎn)焦斑。8.微焦斑X射線源(IμS)可提高極小焦斑面積上的X射線通量,而功耗卻很低。9.TURBOX射線源(TXS)旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極可為線焦斑、點(diǎn)焦斑和微焦斑等應(yīng)用提供比較高X射線通量。10.性液態(tài)金屬靶METALJET技術(shù),可提供無(wú)出其右的X射線光源亮度。11.高效TurboX射線源(TXS-HE)可為點(diǎn)焦斑和線焦斑應(yīng)用提供比較高X射線通量,適用于D8DISCOVERPlus。12.這些X射線源結(jié)合指定使用X射線光學(xué)元件,可高效捕獲X射線,并將之轉(zhuǎn)化為針對(duì)您的應(yīng)用而優(yōu)化的X射線束。湖南第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)XRD衍射儀憑借RapidRSM技術(shù),能在 短的時(shí)間內(nèi),測(cè)量大面積倒易空間。在DIFFRAC.LEPTOS中,進(jìn)行倒易點(diǎn)陣轉(zhuǎn)換和分析。
薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,不過(guò)進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測(cè)定以及組分與應(yīng)變分析。在對(duì)薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí),著重對(duì)厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析(從非晶和多晶涂層到外延生長(zhǎng)薄膜)。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析:掠入射衍射X射線反射法高分辨率X射線衍射倒易空間掃描由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。
薄膜和涂層薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,不過(guò)進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒別、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測(cè)定以及組分與應(yīng)變分析。在對(duì)薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí),著重對(duì)厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析,從非晶和多晶涂層到外延生長(zhǎng)薄膜等。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析:掠入射衍射X射線反射高分辨率X射線衍射倒易空間掃描,由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶還是專業(yè)用戶,都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不僅如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE。D8 DISCOVER配備了MONTEL光學(xué)器件的IμS微焦源可提供更大強(qiáng)度小X射線束,非常適合小范圍或小樣品的研究。
粉煤灰中晶態(tài)礦相及非晶相定量分析引言粉煤灰,是從煤燃燒后的煙氣中收捕下來(lái)的細(xì)灰,粉煤灰是燃煤電廠排出的主要固體廢物。粉煤灰是我國(guó)當(dāng)前排量較大的工業(yè)廢渣之一。大量的粉煤灰不加處理,就會(huì)產(chǎn)生揚(yáng)塵,污染大氣;若排入水系會(huì)造成河流淤塞,而其中的有毒化學(xué)物質(zhì)還會(huì)對(duì)人體和生物造成危害。所以,粉煤灰的再利用一直都是關(guān)注的熱點(diǎn)。比如,已用于制水泥及制各種輕質(zhì)建材等。要合理高效的利用粉煤灰,則需要對(duì)其元素和礦相組成有詳細(xì)的了解。粉煤灰的礦相主要莫來(lái)石、石英以及大量的非晶態(tài)。利用XRD測(cè)定非晶態(tài)通常采用加入特定含量的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)以精確的計(jì)算非晶相物質(zhì)的含量。在實(shí)驗(yàn)室中這個(gè)方法是可行的,但在實(shí)際生產(chǎn)和快速檢測(cè)過(guò)程中,這個(gè)方法就現(xiàn)實(shí)。目前一種全新的PONKS(PartialOrNoKnowCrystalStructure)方法*,解決了這一難題,實(shí)現(xiàn)了粉煤灰樣品的無(wú)標(biāo)樣定量分析。在DIFFRAC.LEPTOS中,對(duì)多層樣品進(jìn)行XRR分析,測(cè)定其薄膜厚度、晶格失配和混合晶體濃度。江蘇XRD衍射儀
使用DIFFRAC.EVA,測(cè)定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過(guò)積分2D圖像,進(jìn)行1D掃描,來(lái)進(jìn)行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。江蘇微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀配件
藥物:從藥物發(fā)現(xiàn)到藥物生產(chǎn),D8D為藥品的整個(gè)生命周期提供支持,其中包括結(jié)構(gòu)測(cè)定、候選材料鑒別、配方定量和非環(huán)境穩(wěn)定性測(cè)試。地質(zhì)學(xué):D8D是地質(zhì)構(gòu)造研究的理想之選。借助μXRD,哪怕是對(duì)小的包裹體進(jìn)行定性相分析和結(jié)構(gòu)測(cè)定也不在話下。金屬:在常見(jiàn)的金屬樣品檢測(cè)技術(shù)中。殘余奧氏體、殘余應(yīng)力和織構(gòu)檢測(cè)不過(guò)是其中的一小部分,檢測(cè)目的在于確保終產(chǎn)品復(fù)合終用戶的需求。薄膜計(jì)量:從微米厚度的涂層到納米厚度的外延膜的樣品都受益于用于評(píng)估晶體質(zhì)量、薄膜厚度、成分外延排列和應(yīng)變松弛的一系列技術(shù)。江蘇微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀配件