光刻膠的去除在IC制造工藝流程中占非常重要的地位,其成本約占IC制造工藝的20-30%,光刻膠去膠效果太弱影響生產(chǎn)效率,去膠效果太強(qiáng)容易造成基底損傷,影響整個(gè)產(chǎn)品的成品率。傳統(tǒng)主流去膠方法采用濕法去膠,成本低效率高,但隨著技術(shù)不斷選代更新,越來越多IC制造商開始采用干法式去膠,干法式去膠工藝不同于傳統(tǒng)的濕法式去膠工藝,它不需要浸泡化學(xué)溶劑,也不用烘干,去膠過程更容易控制,避免過多算上基底,提高產(chǎn)品成品率。干法式去膠又被稱為等離子去膠,其原理同等離子清洗類似,主要通過氧原子核和光刻膠在等離子體環(huán)境中發(fā)生反應(yīng)來去除光刻膠,由于光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。等離子物理去膠過程:主要是物理作用對(duì)清洗物件進(jìn)行轟擊達(dá)到去膠的目的,主要的氣體為氧氣、氬氣等,通過射頻產(chǎn)生氧離子,轟擊清洗物件,以獲得表面光滑的較大化,并且結(jié)果是親水性增大。等離子清洗機(jī)處理后的時(shí)效性會(huì)因處理時(shí)間、氣體反應(yīng)類型、處理功率大小以及材料材質(zhì)的不同而有所差異。山西sindin等離子清洗機(jī)答疑解惑
在實(shí)際應(yīng)用中,射頻電源頻率的選擇需要根據(jù)具體的清洗需求和材料特性來確定。例如,在半導(dǎo)體芯片制造過程中,需要去除芯片表面的微小污染物和殘留物,同時(shí)避免對(duì)芯片造成損傷。此時(shí),選擇適當(dāng)?shù)纳漕l電源頻率可以確保等離子體在芯片表面均勻分布,同時(shí)提供足夠的能量以去除污染物,同時(shí)保持芯片的完整性。實(shí)驗(yàn)研究表明,不同頻率下的射頻等離子清洗機(jī)在清洗效果上存在差異。較低頻率的射頻電源可能無法產(chǎn)生足夠密度的等離子體,導(dǎo)致清洗效果不佳;而過高的頻率則可能導(dǎo)致等離子體溫度過高,對(duì)材料表面造成損傷。因此,在實(shí)際應(yīng)用中,需要通過實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證和工藝優(yōu)化來確定比較好的射頻電源頻率。安徽寬幅等離子清洗機(jī)設(shè)備攝像頭模組需在DB前、WB前、HM前、封裝前進(jìn)行真空等離子清洗,活化材料表面,提高親水性和黏附性能。
目前,在汽車發(fā)動(dòng)機(jī)領(lǐng)域,油底殼與曲軸箱、曲軸箱與缸體等密封面通常采用硅膠密封,這些硅膠密封面常因殘留有機(jī)物(如珩磨油、切削液、清洗液等)造成硅膠的附著力不足,從而導(dǎo)致密封失效,發(fā)動(dòng)機(jī)漏油。目前的常規(guī)工藝為涂膠前對(duì)涂膠面進(jìn)行人工擦拭,而人工擦拭存在諸多缺點(diǎn),無法達(dá)到清潔的要求。等離子清洗機(jī)的應(yīng)用能夠很好地解決這些問題,目前已經(jīng)應(yīng)用到光學(xué)行業(yè)、航空工業(yè)、半導(dǎo)體業(yè)等領(lǐng)域,并成為關(guān)鍵技術(shù),變得越來越重要。等離子清洗機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)涂膠面上的應(yīng)用:發(fā)動(dòng)機(jī)涂膠面殘留的有機(jī)物薄膜,通常為碳?xì)溲趸衔?CHO,);等離子清洗的過程如下:將壓縮空氣電離成低溫等離子體,通過噴槍噴射到涂膠表面,利用等離子體(主要利用壓縮空氣中的氧氣作為反應(yīng)氣體)對(duì)有機(jī)物的分解作用,將涂膠表面殘留的有機(jī)物進(jìn)行分解,以達(dá)到清潔目的。反應(yīng)過程主要有兩種:第一種化學(xué)反應(yīng),將壓縮空氣電離后獲得大量氧等離子體:氧等離子體與有機(jī)物作用,把有機(jī)物(CHO,)分解成二氧化碳和水,CHyOz+O*→H20+CO2,二種是物理反應(yīng),壓縮空氣電離成等離子體后,等離子體內(nèi)的高能粒子以高能量、高速度轟擊涂膠面表面,使分子分解。
等離子清洗機(jī)(plasma cleaner)是高科技的一款表面處理設(shè)備,通過等離子體來達(dá)到表面處理的作用;獲得清洗、活化、刻蝕、涂層等多方向的應(yīng)用,解決各種行業(yè)的表面處理難題。1、等離子清洗機(jī)原理密閉的反應(yīng)腔體(真空室、真空腔體)被真空泵不斷抽氣,從1個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下降到設(shè)定的壓力值并維持真空度;通入氬、氫、氮?dú)獾裙に嚉怏w,啟動(dòng)等離子發(fā)生器,讓反應(yīng)腔體內(nèi)電極之間產(chǎn)生高壓交變電場(chǎng),使得自由電子能量加速,去激發(fā)工藝氣體分子形成等離子體,具有高反應(yīng)活性或高能量的等離子體,會(huì)與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)、碰撞形成各種揮發(fā)性物質(zhì),這些揮發(fā)性物質(zhì)伴隨工藝氣流由真空泵抽取出去,從而達(dá)到被處理對(duì)象表面清潔、活化等目的。真空等離子清洗設(shè)備是利用等離子體的物理和化學(xué)作用來清洗物體表面的一種設(shè)備。
隨著科技的進(jìn)步和市場(chǎng)需求的變化,Plasma封裝等離子清洗機(jī)也在不斷進(jìn)行技術(shù)創(chuàng)新和升級(jí)。一方面,為了提高處理效率和效果,研究人員正在探索更高頻率、更高能量的等離子體產(chǎn)生技術(shù),以及更優(yōu)化的工藝氣體組合和反應(yīng)條件。另一方面,為了滿足不同行業(yè)、不同材料的需求,Plasma封裝等離子清洗機(jī)正在向多功能化、智能化方向發(fā)展。例如,通過集成傳感器和控制系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)對(duì)清洗過程的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和自動(dòng)調(diào)節(jié);通過開發(fā)軟件和算法,實(shí)現(xiàn)對(duì)不同材料、不同污染物的準(zhǔn)確識(shí)別和高效處理。此外,隨著環(huán)保意識(shí)的提高和綠色生產(chǎn)理念的普及,Plasma封裝等離子清洗機(jī)在設(shè)計(jì)和制造過程中也將更加注重環(huán)保性能,采用低能耗、低排放的設(shè)計(jì)理念和技術(shù)手段。等離子表面處理機(jī)利用高溫等離子體對(duì)材料進(jìn)行物理或化學(xué)處理,以達(dá)到改善材料性能、提高產(chǎn)品質(zhì)量的目的。吉林半導(dǎo)體封裝等離子清洗機(jī)作用
等離子清洗機(jī)是一種環(huán)保高效的表面處理設(shè)備,通過激發(fā)氣體產(chǎn)生等離子態(tài),去除材料表面污染物。山西sindin等離子清洗機(jī)答疑解惑
等離子清洗機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域1.汽車行業(yè):點(diǎn)火線圈骨架表面活化、汽車門窗密封件的處理、控制面板在粘合前處理、內(nèi)飾皮革包裹、內(nèi)飾植絨前處理等等;2.醫(yī)療行業(yè):培養(yǎng)皿表面活化、醫(yī)療導(dǎo)管粘接前處理、輸液器粘接前的處理、酶標(biāo)板的表面活化等等;3.新能源行業(yè):新能源電池電芯的表面處理、電池藍(lán)膜的表面處理、電池表面粘接前的處理等等;4.電子行業(yè):芯片表面處理、封裝前的預(yù)處理、各類電子器件粘接前處理、支架及基板的表面處理等等;等離子清洗機(jī)設(shè)計(jì)的行業(yè)非常的大,在用戶遇到,表面粘接力、親水性、印刷困難、涂覆不均勻等等問題,都可以嘗試等離子清洗機(jī)的表面處理,通過表面活化、改性的方式解決問題。山西sindin等離子清洗機(jī)答疑解惑